[发明专利]对准装置、成膜装置、对准方法、电子器件的制造方法以及存储介质

说明书

本发明涉及对准装置、成膜装置、对准方法、电子器件的制造方法以及存储介质。提高基板与掩模的对准的精度。对准装置进行基板和掩模的对位。检测构件检测设置于掩模的第一掩模标记和第二掩模标记、以及与第一掩模标记对应地设置于基板的第一基板标记。设定构件基于由检测构件检测到的第一基板标记的位置信息，设定与第二掩模标记对应的基板上的假想位置信息。位置调整构件基于假想位置信息和由检测构件检测到的第一掩模标记、第二掩模标记及第一基板标记的位置信息，进行基板和掩模的位置调整。

技术领域

本发明涉及对准装置、成膜装置、对准方法、电子器件的制造方法以及存储介质。

背景技术

在有机EL显示装置(有机EL显示器)等的制造中，有时使用蒸镀用的掩模将蒸镀材料蒸镀到基板上。在专利文献1中，公开了在进行使用了掩模的蒸镀处理时进行基板与掩模的对准。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2019-189943号公报

发明内容

发明要解决的课题

然而，在进行全彩色显示的有机EL显示装置中，通常，有时按红色(R)、绿色(G)、蓝色(B)的每个发光色分开涂敷并进行蒸镀，但从防止混色、高精细化等观点出发，优选高精度地进行这些分开涂敷。因此，希望改善基板与掩模的对准的精度。

本发明的目的在于提供一种提高基板与掩模的对准的精度的技术。

用于解决课题的方案

作为本发明的一方案的对准装置的特征在于，具备：检测构件，所述检测构件检测设置于掩模的第一掩模标记和第二掩模标记、以及与所述第一掩模标记对应地设置于基板的第一基板标记；设定构件，所述设定构件基于由所述检测构件检测到的所述第一基板标记的位置信息，设定与所述第二掩模标记对应的所述基板上的假想位置信息；以及位置调整构件，所述位置调整构件基于所述假想位置信息和由所述检测构件检测到的所述第一掩模标记、所述第二掩模标记及所述第一基板标记的位置信息，进行所述基板和所述掩模的相对位置调整。

另外，作为本发明的另一方案的对准装置的特征在于，具备：检测构件，所述检测构件对设置于掩模的第一掩模标记和第二掩模标记、与所述第一掩模标记对应地设置于基板的第一基板标记以及与所述第二掩模标记对应地设置于所述基板的第二基板标记进行检测；设定构件，所述设定构件基于由所述检测构件检测到的所述第一基板标记的位置信息，设定与所述第二基板标记对应的所述基板上的假想位置信息；以及位置调整构件，所述位置调整构件基于所述假想位置信息和由所述检测构件检测到的所述第一掩模标记、所述第二掩模标记及所述第一基板标记的位置信息，进行所述基板和所述掩模的相对位置调整。

另外，作为本发明的另一方案的成膜装置的特征在于，具备：上述对准装置和经由所述掩模在所述基板上成膜的成膜构件。

另外，作为本发明的另一方案的对准方法的特征在于，包括：检测工序，在所述检测工序中，检测设置于掩模的第一掩模标记和第二掩模标记、以及与所述第一掩模标记对应地设置于基板的第一基板标记；设定工序，在所述设定工序中，基于在所述检测工序中检测到的所述第一基板标记的位置信息，设定与所述第二掩模标记对应的所述基板上的假想位置信息；以及位置调整工序，在所述位置调整工序中，基于在所述检测工序中检测到的所述第一掩模标记、所述第二掩模标记及所述第一基板标记的位置信息和在所述设定工序中设定的所述假想位置信息，进行所述基板和所述掩模的位置调整。