[发明专利]彩色滤光层制作方法、相关基板及其制作方法

说明书

本申请提供了一种彩色滤光层制作方法、彩膜基板制作方法、阵列基板制作方法、彩膜基板及阵列基板，其中彩色滤光层制作方法包括：步骤S111、将共用掩模板向第一色阻块的远离第二色阻块的一侧移动一个像素间距的距离，进行曝光工艺，并将共用掩模板上的图案转印到第四光刻胶上。本申请采用将共用掩模板向第一色阻块的远离第二色阻块的一侧移动一个像素间距的距离的步骤替代了将共用掩模板向第一色阻块的靠近第二色阻块的一侧移动三个像素间距的距离的步骤，防止了共用掩模板的边缘与光刻机的曝光区域的边缘之间的间距小于200微米，从而解决了现有的采用共用掩模板向同一侧依序偏移来制作彩色滤光层的方法容易导致标记误抓、曝光错误的问题。

技术领域

本申请属于显示面板技术领域，更具体地说，是涉及一种彩色滤光层制作方法、彩膜基板制作方法、阵列基板制作方法、彩膜基板及阵列基板。

背景技术

随着信息时代的飞速发展，显示装置在信息技术的发展过程中占据了十分重要的地位，各类仪器仪表上的显示屏为人们的日常生活和工作提供着大量的信息，可以说没有显示装置就不会有当今飞速发展的信息技术。TFT-LCD(Thin film transistor-liquidcrystal display，薄膜晶体管液晶显示屏)因亮度好、对比度高、层次感强、颜色鲜艳、制作简单、性能稳定等特点，被广泛应用到人们的生活和工作中。

TFT-LCD要实现不同色彩显示，需要在彩膜基板或阵列基板上制作彩色滤光层，通过彩色滤光层将背光模组发出的光转变为红、绿、篮、白等不同颜色的光；在制作彩色滤光层的过程中通常需要使用多张掩模板(Mask)，其中红、绿、篮、白四个标准色各需要一张，这样会导致生产成本提高，而由于在同一张彩膜基板或阵列基板上红、绿、篮、白四种色阻块的结构和面积是可以一致的，因此目前彩色滤光层的制作可以采用红、绿、篮、白四种颜色共用一张掩模板的方式来实现，其具体的制作过程是：先在玻璃基板上涂布红色光刻胶，接着利用共用掩模板曝光显影制作出红色色阻块，接着在玻璃基板上涂布绿色光刻胶，接着将共用掩模板向红色色阻块的一侧移动一个像素间距，接着利用共用掩模板曝光显影制作出绿色色阻块，接着在玻璃基板上涂布蓝色光刻胶，接着将共用掩模板向绿色色阻块的远离红色色阻块的一侧移动一个像素间距，接着利用共用掩模板曝光显影制作出蓝色色阻块，然后在玻璃基板上涂布白色光刻胶，接着将共用掩模板向蓝色色阻块的远离绿色色阻块的一侧移动一个像素间距，最后利用共用掩模板曝光显影制作出白色色阻块，完成彩色滤光层的制作；然而当共用掩模板向同一侧依序偏移三个像素间距后，容易出现共用掩模板的边缘与光刻机的曝光区域的边缘之间的间距小于200微米的情况，导致共用掩模板的透光量不足，出现标记(Mark)误抓，造成曝光错误。

发明内容

本申请的目的在于提供一种彩色滤光层制作方法、彩膜基板制作方法、阵列基板制作方法、彩膜基板及阵列基板，其包括但不限于解决现有的采用共用掩模板向同一侧依序偏移来制作彩色滤光层的方法容易导致标记误抓、曝光错误的技术问题。

本申请是这样实现的，提供了一种彩色滤光层制作方法，包括以下步骤：

S110、在依次排列有第一色阻块、第二色阻块和第三色阻块的衬底上涂布第四光刻胶；

S111、将共用掩模板向第一色阻块的远离第二色阻块的一侧移动一个像素间距的距离，进行曝光工艺，并将共用掩模板上的图案转印到第四光刻胶上；

S112、进行显影工艺，将被射线照射到的第四光刻胶溶解到显影液中，并在衬底上形成第四色阻块。

在一个实施例中，所述彩色滤光层制作方法还包括以下步骤：

S101、在衬底上涂布第一光刻胶；

S102、进行曝光工艺，将共用掩模板上的图案转印到第一光刻胶上；

S103、进行显影工艺，将被射线照射到的第一光刻胶溶解到显影液中，并在衬底上形成第一色阻块；

S104、在衬底上涂布第二光刻胶；