[发明专利]一种微波吸收材料及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202110453500.0 申请日: 2021-04-26
公开(公告)号: CN113151796B 公开(公告)日: 2023-04-07
发明(设计)人: 付慧清;曾国勋;吴起白;张海燕;钟宇峰 申请(专利权)人: 广东工业大学
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/16;C23C14/22;H05K9/00
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 黄忠
地址: 510060 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 微波 吸收 材料 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种微波吸收材料的制备方法,其特征在于,包括:

步骤1、将铁磁粉体吸附在磁控溅射仪中,利用第一靶材和第二靶材于所述铁磁粉体表面进行磁控溅射沉积,得到多层介质材料包覆的铁磁粉体复合材料;所述第一靶材选自金属介质型材料;所述第二靶材选自电介质型材料;

步骤2、将所述铁磁粉体复合材料进行氧化处理,得到多层电介质材料包覆铁磁粉体的微波吸收材料;

所述铁磁粉体为铁磁非晶粉体;

所述磁控溅射沉积包括在磁控溅射仪中放置基片公转台,将铁磁粉体放置在基片公转台上,使得铁磁粉体在磁控溅射仪中水平旋转和翻转;

所述第一靶材选自钛、锌、钴和镍中的一种或多种;

所述第二靶材选自碳;

步骤1具体包括:

1.1、将铁磁粉体放在磁控溅射仪中,利用第一靶材于所述铁磁粉体表面进行磁控溅射沉积,得到第一靶材质包覆的铁磁粉体复合材料;

1.2、将所述第一靶材包覆的铁磁粉体材料表面进行第二靶材的磁控溅射沉积,得到多层介质材料包覆的铁磁粉体复合材料;

所述氧化处理的温度为200~350℃;所述氧化处理的时间为30~120分钟;所述氧化处理的升温速率为1℃/min~2℃/min。

2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤1中,所述磁控溅射仪的基片公转台的凹槽设有磁铁样品放置板,所述基片公转台的外周固定有翻转架,所述翻转架包括两个相同的开口矩形框,所述开口矩形框的开口端交叉固定在所述基片公转台的外周,使得所述开口矩形框的闭口端交叉形成交叉面,所述交叉面设置在所述磁铁样品放置板的表面;

所述磁铁样品放置板包括两块铁片和磁铁,两块所述铁片分别固定在所述磁铁的两侧。

3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤1中,所述磁控溅射沉积的溅射时间为0.5~1h;所述磁控溅射沉积的流量为30~35sccm;所述磁控溅射沉积的直流电压为5~8V;所述磁控溅射沉积的直流电流为1.9~2.1A。

4.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤1中,所述铁磁粉体的制备方法包括:将铁磁带材进行低温退火处理,然后采用球磨和干燥处理得到铁磁粉体。

5.一种微波吸收材料,其特征在于,包括权利要求1至4任意一项所述的制备方法制得的多层电介质包覆铁磁粉体的微波吸收材料。

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