[发明专利]一种去除光刻胶树脂中的金属杂质的方法有效
申请号: | 202110452965.4 | 申请日: | 2021-04-26 |
公开(公告)号: | CN113198549B | 公开(公告)日: | 2023-01-31 |
发明(设计)人: | 杨鑫楷;马潇;周浩杰;杨平原;陈情丽;顾大公;毛智彪;许从应 | 申请(专利权)人: | 宁波南大光电材料有限公司 |
主分类号: | B01J47/10 | 分类号: | B01J47/10;B01J19/14 |
代理公司: | 深圳盛德大业知识产权代理事务所(普通合伙) 44333 | 代理人: | 左光明 |
地址: | 315800 浙江省*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 去除 光刻 树脂 中的 金属 杂质 方法 | ||
1.一种去除光刻胶树脂中的金属杂质的方法,其特征在于,包括以下步骤:
S1、对预置的离子交换树脂进行活化处理;
S2、将活化后的离子交换树脂与光刻胶树脂反应液在反应瓶中进行混合搅拌,搅拌结束后对混合液中的离子交换树脂进行滤除;
S3、对滤除离子交换树脂后的树脂溶液进行沉淀处理、固液分离以及烘干处理;
S4、再次重复步骤S3,得到去除金属杂质后的光刻胶树脂;
所述光刻胶树脂为甲基丙烯酸系列树脂;
所述步骤S1中对预置的离子交换树脂采用去离子水进行冲洗和浸泡处理后,得到活化后的离子交换树脂;
所述步骤S2中混合搅拌的参数为:转速120-160r/min、搅拌时间为8-16h;
所述步骤S2中活化后的离子交换树脂为混合液的质量的10-50%;
所述步骤S3中在反应瓶中加入沉淀剂以对滤除离子交换树脂后的树脂溶液进行沉淀处理;
所述沉淀剂为电子级沉淀剂;
所述电子级沉淀剂的质量为所述混合液的质量的5-10倍;
所述去除金属杂质后的光刻胶树脂中的金属杂质Al、Ca、Cr、Cu、Fe、K、Li、Mg、Mn、Na、Ni、Zn均小于20ppb,总金属杂质均低于17ppb。
2.根据权利要求1所述的去除光刻胶树脂中的金属杂质的方法,其特征在于,所述冲洗时间不小于3h,所述浸泡时间不小于24h。
3.根据权利要求1所述的去除光刻胶树脂中的金属杂质的方法,其特征在于,所述反应瓶为多口烧瓶或反应釜,步骤S1、步骤S2以及步骤S3均处于保护气条件下。
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