[发明专利]一种低辐射镀膜玻璃及其制备方法在审
| 申请号： | 202110444767.3 | 申请日： | 2021-04-24 |
| 公开（公告）号： | CN113185143A | 公开（公告）日： | 2021-07-30 |
| 发明（设计）人： | 刘文龙;王斌;谢荫光;骆陈喜 | 申请（专利权）人： | 苏州晶博特镀膜玻璃有限公司 |
| 主分类号： | C03C17/36 | 分类号： | C03C17/36;B08B11/04 |
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| 地址： | 215000 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 辐射 镀膜 玻璃 及其 制备 方法 | ||
1.一种低辐射镀膜玻璃，其特征在于，包括玻璃基板和依次溅射设于玻璃基板上的ZnOx膜、Ag膜、NiCr薄膜和SiNx膜。
2.根据权利要求1所述的一种低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述Ag膜与ZnOx膜之间设有NiCr薄膜。
3.根据权利要求2所述的一种低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述NiCr薄膜的厚度为6-10nm。
4. 根据权利要求1所述的一种低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述SiNx膜的厚度为30-40nm，Ag膜的厚度为8-10nm，NiCr薄膜的厚度为6-10 nm，ZnOx膜的厚度为20-30 nm。
5.一种如权利要求2任一项所述的低辐射镀膜玻璃的制备方法，其特征在于：包括如下步骤：
S1、清洗玻璃基板，干燥；
S2、将镀膜室抽真空，使镀膜室真空度为2*10-2托，充入氧气，使用锌铝靶材，在玻璃基板上沉积ZnOx膜；充入氩气，使用镍铬靶材和银靶材，在ZnOx膜依次沉积NiCr薄膜、Ag膜和NiCr薄膜；充入氮气，使用硅铝靶材，在NiCr薄膜上沉积SiNx膜；
S3、检验，得低辐射镀膜玻璃。
6.根据权利要求5所述的一种低辐射镀膜玻璃的制备方法，其特征在于：步骤S2中，氮气流量为500sccm，氩气流量为700sccm，氧气流量为500sccm。
7.根据权利要求5所述的一种低辐射镀膜玻璃的制备方法，其特征在于：步骤S1中，先利用清洗剂清洗玻璃基板，然后利用去离子水清理玻璃基板，所述清洗剂由以下重量份的原料混合而成：水170-190份，表面活性剂8-10份，氢氧化钾4-5份，碳酸钠1-2份，N-甲基吡咯烷酮1-2份。
8.根据权利要求7所述的一种低辐射镀膜玻璃的制备方法，其特征在于：所述表面活性剂由重量比为（2-3）∶1的十二烷基葡萄糖苷和月桂酰二乙醇胺混合而成。
9.根据权利要求7所述的一种低辐射镀膜玻璃的制备方法，其特征在于：所述清洗剂中氢氧化钾和碳酸钠的重量比为（3-4）∶1。
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