[发明专利]玻璃镀膜工艺及采用该工艺制得的镀膜玻璃在审
申请号: | 202110444761.6 | 申请日: | 2021-04-24 |
公开(公告)号: | CN113045219A | 公开(公告)日: | 2021-06-29 |
发明(设计)人: | 刘文龙;王斌;谢荫光;骆陈喜 | 申请(专利权)人: | 苏州晶博特镀膜玻璃有限公司 |
主分类号: | C03C17/36 | 分类号: | C03C17/36;C03C23/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 215000 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 玻璃 镀膜 工艺 采用 | ||
本申请涉及镀膜玻璃领域,尤其涉及一种玻璃镀膜工艺及采用该工艺制得的镀膜玻璃。玻璃镀膜工艺,包括以下步骤:清洗、干燥、真空磁控溅射镀膜;所述清洗步骤中,先采用反渗透水对玻璃进行逆流水洗,之后采用去离子水对玻璃进行清洗;所述真空磁控溅射镀膜步骤中,工艺气氛为氧气、氮气、氩气的一种或多种。镀膜玻璃,采用上述玻璃镀膜工艺制得;且镀膜玻璃包括低辐射镀膜玻璃和阳光控制镀膜玻璃。房屋,其窗户的玻璃采用上述镀膜玻璃。本申请通过采用反渗透水逆流水洗并配合去离子水喷淋清洗的方式,有效提高了对玻璃的清洗效果,从而提升了玻璃表面洁净度,进而有利于提高镀膜的效果,使镀膜玻璃获得更理想的性能。
技术领域
本申请涉及镀膜玻璃领域,更具体地说,它涉及一种玻璃镀膜工艺及采用该工艺制得的镀膜玻璃。
背景技术
真空磁控溅射镀膜是目前常用的一种玻璃镀膜方法。镀膜原理为:将镀膜工艺区抽真空并输入工艺气体。镀膜工艺区内具有正、负电极,两者加有高电压,因此产生电场;阴极在此条件下产生高能量的电子。电子逸出并撞击工艺气体使得气体分子发生电离,电离产生的正离子在磁场和电场的作用下撞击金属材质的靶材,靶材的原子在冲击下从靶材表面逸出,并带着足够的能量朝玻璃基片高速撞击。撞击后,靶材原子吸附在玻璃表面并与玻璃交换能量,在不断吸附下玻璃表面形成镀膜层。
相关技术中,玻璃镀膜的方法具体为:首先采用普通自来水对玻璃进行冲洗,再采用去离子水进行冲洗,通过自来水和去离子水的配合冲洗,去除玻璃表面污物。清洗后,对玻璃进行烘干。将烘干后的玻璃置于磁控溅射镀膜机中进行镀膜。对镀膜玻璃进行检验,合格后下料收集。
针对上述相关技术,发明人认为:仅采用自来水和去离子水配合冲洗的方式,无法很好地去除玻璃表面的污物,从而会使镀出的膜层具有缺陷,进而影响了镀膜玻璃的性能。
发明内容
为了提高玻璃表面的洁净性,进而提升镀膜效果,本申请提供一种玻璃镀膜工艺及采用该工艺制得的镀膜玻璃。
第一方面,本申请提供一种玻璃镀膜工艺,采用如下的技术方案:
玻璃镀膜工艺,包括以下步骤:清洗、干燥、真空磁控溅射镀膜;
所述清洗步骤中,先采用反渗透水对玻璃进行逆流水洗,之后采用去离子水对玻璃进行清洗;
所述真空磁控溅射镀膜步骤中,工艺气氛为氧气、氮气、氩气的一种或多种。
通过采用上述技术方案,由于反渗透水所含的有害杂质较少,因此采用反渗透水对玻璃进行清洗,能够有效减少额外杂质的引入,减少玻璃被二次污染的可能性,从而提高了玻璃的清洗效果。同时,采用逆流水洗不仅可以提高对水的利用率,而且还可以提高清洗的效率,从而有利于玻璃洁净度的进一步提升。在逆流水洗之后,再采用去离子水对玻璃进行喷淋清洗,可以进一步除去玻璃表面的污物,提高玻璃的洁净度。而玻璃表面洁净程度的提高,有利于提升在玻璃上所镀膜层的均匀性和完整性,减少膜层的缺陷,从而提高了镀膜的效果,进而有利于提高镀膜玻璃的性能。
可选的,所述清洗步骤中,采用反渗透水对玻璃进行逆流水洗至少三次,采用去离子水对玻璃进行喷淋清洗。
通过采用上述技术方案,有利于进一步提升玻璃的洁净程度,从而提升镀膜的效果。
可选的,所述反渗透水的水温控制在25-55℃。
通过采用上述技术方案,较高的水温有利于提高反渗透水去除玻璃上污物的效果。
可选的,所述清洗步骤中,在采用反渗透水对玻璃进行逆流水洗之前先采用清洗溶液对玻璃进行清洗。
通过采用上述技术方案,清洗溶液能够有效去除玻璃上的一些污物粉尘,从而进一步提高了玻璃的洁净度。
可选的,所述清洗溶液由包括以下配比的原料制成:
烷基糖苷5-18wt%、焦磷酸钾2-5wt%、瓜尔胶1-2wt%、氢氧化钠5-8wt%、余量为水。
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