[发明专利]玻璃镀膜工艺及采用该工艺制得的镀膜玻璃在审

专利信息
申请号: 202110444761.6 申请日: 2021-04-24
公开(公告)号: CN113045219A 公开(公告)日: 2021-06-29
发明(设计)人: 刘文龙;王斌;谢荫光;骆陈喜 申请(专利权)人: 苏州晶博特镀膜玻璃有限公司
主分类号: C03C17/36 分类号: C03C17/36;C03C23/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215000 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 玻璃 镀膜 工艺 采用
【权利要求书】:

1.玻璃镀膜工艺,其特征在于:包括以下步骤:清洗、干燥、真空磁控溅射镀膜;

所述清洗步骤中,先采用反渗透水对玻璃进行逆流水洗,之后采用去离子水对玻璃进行清洗;

所述真空磁控溅射镀膜步骤中,工艺气氛为氧气、氮气、氩气的一种或多种。

2.根据权利要求1所述的玻璃镀膜工艺,其特征在于:所述清洗步骤中,采用反渗透水对玻璃进行逆流水洗至少三次,采用去离子水对玻璃进行喷淋清洗。

3.根据权利要求2所述的玻璃镀膜工艺,其特征在于:所述反渗透水的水温控制在25-55℃。

4.根据权利要求2所述的玻璃镀膜工艺,其特征在于:所述清洗步骤中,在采用反渗透水对玻璃进行逆流水洗之前先采用清洗溶液对玻璃进行清洗。

5.根据权利要求4所述的玻璃镀膜工艺,其特征在于:所述清洗溶液由包括以下配比的原料制成:

烷基糖苷5-18wt%、焦磷酸钾2-5wt%、瓜尔胶1-2wt%、氢氧化钠5-8wt%、余量为水。

6.根据权利要求5所述的玻璃镀膜工艺,其特征在于:所述清洗溶液的温度控制在45-55℃。

7.根据权利要求1所述的玻璃镀膜工艺,其特征在于:所述真空磁控溅射镀膜步骤中,采用锌铝靶、镍铬靶、银靶、硅铝靶、钛靶、锡靶中的一种或多种。

8.根据权利要求7所述的玻璃镀膜工艺,其特征在于:所述真空磁控溅射镀膜步骤中,镀膜时的气压控制在1.5×10-2-2.5×10-2Torr。

9.镀膜玻璃,其特征在于:采用权利要求1-8任一所述的玻璃镀膜工艺制得;所述镀膜玻璃包括低辐射镀膜玻璃和阳光控制镀膜玻璃。

10.房屋,其特征在于:其窗户的玻璃采用如权利要求9所述的镀膜玻璃。

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