[发明专利]一种薄型高清晰预涂基膜的制备方法

权利要求书

1.一种薄型高清晰预涂基膜的制备方法，其特征在于，包括：如下步骤：步骤一、挤出机：挤出机在挤出熔体时，保持挤出熔体压力均匀、稳定；

步骤二、挤出的熔体经过熔体粗过滤和熔体精过滤过程，过滤除去熔体中过分降解的产物及夹带的气泡、未熔物料或焦料等异物；

步骤三、经过熔体粗过滤后的熔体进入到计量装置，计量装置包括高精度的齿轮计量泵，计量出熔体排出的量；

步骤四、把上述处理后的熔体进入静态混合装置，使静态混合装置用对处理后的熔体进行二次融合；

步骤五、二次融合后的熔体会被模头（4）进行铸片操作；

步骤六、将步骤五制造出来的铸片通过冷却转鼓，进行冷却处理；

步骤七、测厚仪通过厚度扫描系统控制，厚度扫描系统通过计算机控制系统对基膜的厚度进行监控。

2.如权利要求1所述的一种薄型高清晰预涂基膜的制备方法，其特征在于，基膜由下列原料按照百分比配制成，原材料为80-90%的树脂材料，5-10%的聚合物纳米复合材料、5-10%的塑料光亮剂。

3.如权利要求2所述的一种薄型高清晰预涂基膜的制备方法，其特征在于，80%-90%的树脂其分子量介于200-20000之间，密度1.45-1.55 g/cm3之间，且80%-90%的树脂由聚对苯二甲酸丁二醇酯、环氧树脂、聚芳酯、聚酰亚胺、聚酰胺中的一种或几种组合而成。

4.如权利要求3所述的一种薄型高清晰预涂基膜的制备方法，其特征在于，5-10%聚合物纳米复合材料由三氧化二铝，氧化铁、碳化硅、氮化硅、蒙脱土中的一种或几种组合而成。

5.如权利要求1所述的一种薄型高清晰预涂基膜的制备方法，其特征在于，预涂基膜分为三层结构，三层结构依次为A层、B层、A层，B层为芯层，A层为表层。

6.如权利要求5所述的一种薄型高清晰预涂基膜的制备方法，其特征在于，A层原材料配比为90份80%-90%的树脂:5份5-10%聚合物纳米复合材料:5份5-10%的塑料光亮剂，且A层的厚度为2-10um。

7.如权利要求5所述的一种薄型高清晰预涂基膜的制备方法，其特征在于，B层原材料配比为90份80%-90%的树脂:10份5-10%聚合物纳米复合材料，且B层的厚度为10-50um。

8.如权利要求1所述的一种薄型高清晰预涂基膜的制备方法，其特征在于，基膜表层的氧化层树脂涂层厚度为1-10um。

9.如权利要求1所述的一种薄型高清晰预涂基膜的制备方法，其特征在于，基膜的厚度为25-100um，润湿张力为42-56dyn/cm。

10.一种薄型高清晰预涂基膜的制备装置，其特征在于，包括：模头（4），模头（4）的内部装设有管道（6），管道（6）的一端装设有分层调节销（3），分层调节销（3）的一侧装设有多个输料线管（2），多个输料线管（2）的一端均装设有合流调节片（1），模头（4）的顶部装设有排气罩（5）。