[发明专利]离型膜和其制造方法有效
| 申请号: | 202110428153.6 | 申请日: | 2021-04-21 | 
| 公开(公告)号: | CN113528039B | 公开(公告)日: | 2023-05-05 | 
| 发明(设计)人: | 尹宗郁 | 申请(专利权)人: | 东丽尖端素材株式会社 | 
| 主分类号: | C09J7/25 | 分类号: | C09J7/25;C09J7/30;C09J11/06;C09J11/08;C09J161/32 | 
| 代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 夏正东 | 
| 地址: | 韩国庆*** | 国省代码: | 暂无信息 | 
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 离型膜 制造 方法 | ||
1.一种离型膜,包括:
基材;以及
位于所述基材的至少一表面上的离型层,
其中所述离型层包括粘结剂和离型剂,
其中所述粘结剂是三聚氰胺基树脂,
其中所述离型剂由以下化学式2表示:
其中,
R'1和R'2各自独立地为烷基、烯基、烷氧基、氢原子或羟基;
R'3、R'4、R'5和R'6各自独立地为氢原子、氟原子、丙烯酸基、酯基、醚基、氨基甲酸乙酯基、醇酸基、异氰酸酯基、环氧基、羧基、羰基、甲醇基、羟基、氨基、巯基、烷基、烯基、烷氧基;以及
n是0至30的整数,m是0至30的整数,且n+m是1至60的整数,和
其中基于100重量份的粘结剂,所述离型剂的含量为0.05至20重量份,
其中,所述基材的表面的中心线平均粗糙度(Ra)等于或大于10nm且小于30nm,
所述离型层的表面的中心线平均粗糙度(Ra)小于15nm,且其最大突起高度(Rt)等于或小于150nm,
在从卷取有所述离型膜的卷的芯部表面到卷表面的总距离中,在卷表面方向上距芯部表面的1/3或以上的位置处,卷表面硬度为500至800。
2.一种离型膜,包括:
基材;以及
位于所述基材的至少一表面上的离型层,
其中所述离型层包括粘结剂和离型剂,
其中所述粘结剂是三聚氰胺基树脂,
其中所述离型剂是硅基树脂,其具有选自丙烯酸基、酯基、氨基甲酸乙酯基、异氰酸酯基、环氧基、羧基、羰基、羟基、醚基、氨基、巯基、烷基和烯基中的至少一个官能团:
其中基于100重量份的粘结剂,所述离型剂的含量为0.05至20重量份,
其中,所述基材的表面的中心线平均粗糙度(Ra)等于或大于10nm且小于30nm,
所述离型层的表面的中心线平均粗糙度(Ra)小于15nm,且其最大突起高度(Rt)等于或小于150nm,
在从卷取有所述离型膜的卷的芯部表面到卷表面的总距离中,在卷表面方向上距芯部表面的1/3或以上的位置处,卷表面硬度为500至800。
3.根据权利要求1所述的离型膜,其中,
所述离型层的动态超细微硬度(DH)为0.2gf/μm2至3.0gf/μm2。
4.根据权利要求1所述的离型膜,其中,
所述离型层对陶瓷片的剥离力为0.5gf/25mm至10gf/25mm。
5.根据权利要求1所述的离型膜,其中,
所述离型层的残余粘着率大于或等于85%。
6.根据权利要求1所述的离型膜,其中,
所述离型层的厚度为0.01μm至0.5μm。
7.根据权利要求1所述的离型膜,其中,
所述离型膜用于成型陶瓷片。
8.一种制造离型膜的方法,包括:
准备基材;
在所述基材的至少一表面上涂覆并热处理包括粘结剂和离型剂的用于形成离型层的组合物,从而制造形成有离型层的膜;以及
通过用卷卷取所述膜来制作主卷,并将其切开来制造根据权利要求1-7任一项所述的离型膜。
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