[发明专利]一种氮化硅光纤结构件的制备方法有效

专利信息
申请号: 202110423393.7 申请日: 2021-04-20
公开(公告)号: CN113135760B 公开(公告)日: 2022-03-08
发明(设计)人: 张伟儒;魏文钊;孙峰;徐金梦;董廷霞;徐学敏;杨厚萌;李泽坤;郭杨;丁智杰;李洪浩;吕沛远 申请(专利权)人: 中材高新氮化物陶瓷有限公司
主分类号: C04B35/584 分类号: C04B35/584;C04B35/64
代理公司: 北京高沃律师事务所 11569 代理人: 马丛
地址: 255000 山*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 一种 氮化 光纤 结构件 制备 方法
【说明书】:

发明涉及陶瓷材料技术领域,尤其涉及一种氮化硅光纤结构件的制备方法。本发明提供了一种氮化硅光纤结构件的制备方法,包括以下步骤:将二氧化钛和烧结助剂进行预混合,加入乙醇和氮化硅后进行球磨,得到料浆;将所述料浆依次进行喷雾造粒、压制和烧结,得到所述氮化硅光纤结构件;所述氮化硅光纤结构件为圆环状,单边厚度4mm,直径250mm;所述烧结助剂包括氧化铝和氧化钇。利用所述制备方法制备得到的氮化硅光纤结构件不易变性、不易开裂,且所述制备方法的成品率高,可以实现批量稳定化的生产。

技术领域

本发明涉及陶瓷材料技术领域,尤其涉及一种氮化硅光纤结构件的制备方法。

背景技术

氮化硅陶瓷作为工程陶瓷材料,具有重量轻、强度大、耐腐蚀、低膨胀、抗氧化、抗热震和自润滑等特性,使得其在机械、化工、冶金、纺织、电子和航空航天领域被广泛应用。太阳能是未来最清洁、安全和可靠的能源,利用太阳能的最佳方式是光伏转换,由于氮化硅光纤结构件的耐受温度可超过800℃,在超低温、高温等恶劣环境下依然能够保持优异的综合性能,使以氮化硅光纤结构件的应用开发形成的光伏产业迅猛发展。但是在氮化硅光纤结构件的制备过程中,由于氮化硅在烧结过程中会存在严重的颗粒团聚和烧结现象,会导致最终制备得到的氮化硅光纤结构件易变形、易开裂且成品率低,没有办法批量稳定的生产。

发明内容

本发明的目的在于提供一种氮化硅光纤结构件的制备方法,利用所述制备方法制备得到的氮化硅光纤结构件不易变性、不易开裂,且所述制备方法的成品率高,能达到99%以上,可以实现批量稳定化的生产。

为了实现上述发明目的,本发明提供以下技术方案:

本发明提供了一种氮化硅光纤结构件的制备方法,包括以下步骤:

将二氧化钛和烧结助剂进行预混合,加入乙醇和氮化硅后进行球磨,得到料浆;

将所述料浆依次进行喷雾造粒、压制和烧结,得到所述氮化硅光纤结构件;所述氮化硅光纤结构件为圆环状,单边厚度4mm,外径250mm;

所述烧结助剂包括氧化铝和氧化钇。

优选的,所述氧化铝和氧化钇的质量比为(2~3):(1~3)。

优选的,所述二氧化钛、烧结助剂和氮化硅的质量比为(1~2):(4~9):(90~95)。

优选的,所述氮化硅和乙醇的质量比为(0.5~0.7):(1~1.2)。

优选的,所述喷雾造粒的进口温度为190~210℃,喷片孔径为0.9~1.1mm。

优选的,所述压制的压力为10~20MPa,时间为1.5~18min。

优选的,所述烧结在氮气气氛中进行;

所述氮气气氛的压强为2~15MPa。

优选的,所述烧结的温度为1600~1850℃,时间为0.5~19h。

本发明提供了一种氮化硅光纤结构件的制备方法,包括以下步骤:将二氧化钛和烧结助剂进行预混合,加入乙醇和氮化硅后进行球磨,得到料浆;将所述料浆依次进行喷雾造粒、压制和烧结,得到所述氮化硅光纤结构件;所述氮化硅光纤结构件为圆环状,单边厚度4mm,外径250mm;所述烧结助剂包括氧化铝和氧化钇。氮化硅粉体具有较高的表面吉布斯自由能,容易形成团聚,氮化硅粒子难以均匀分散,而容易形成聚集颗粒,针对上述问题,本发明所述的二氧化钛可以对所述氮化硅粉体的表面进行改性,有助于制备均匀分散的高性能氮化硅粉体,通过进一步的压制和烧结,可以实现变形率低、开裂比例小的氮化硅光纤结构件的稳定、批量化制备;氮化硅是强共价键化合物,自扩散系数低,烧结驱动力不足,难以通过单纯的固相烧结实现致密化,所述氧化铝和氧化钇作为烧结助剂可以降低液相的形成温度,改善晶界相的性能,提高烧结后的致密度。

具体实施方式

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