[发明专利]掩膜支撑片、掩膜支撑片组件及精细金属掩膜组件及制造方法

说明书

本发明涉及在显示装置制造中所使用的薄膜工艺用掩膜支撑片、掩膜支撑片组件及精细金属掩膜组件、及它们的制造方法。公开的实施例涉及的掩膜支撑片，作为在显示装置制造中所使用的薄膜工艺用掩膜支撑片，所述掩膜支撑片是一体型的金属片，所述掩膜支撑片包括：多个显示开口部，与每单位显示装置的显示区域对应；以及多个突出端，从边缘向外轮廓方向突出，所述掩膜支撑片被构成为支撑精细金属掩膜条，该精细金属掩膜(Fine Meta l Mask)条包括与所述显示区域内的细节图案对应的多个细微开口部，所述显示开口部分别包括盆地型凹口，该盆地型凹口呈与精细金属掩膜条相邻一侧凹陷的形态。

技术领域

本发明涉及在显示装置制造中所使用的薄膜工艺用掩膜支撑片、包括所述掩膜支撑片的掩膜支撑片组件、以及包括所述掩膜支撑片组件的精细金属掩膜组件。

本发明涉及在显示装置制造中所使用的薄膜工艺用精细金属掩膜组件制造方法。

背景技术

近年来广泛制造的有机发光显示装置(OLED；Organic Light-Emitting Diodes)作为电视、PC、平板PC、智能手机、智能手表、车辆仪表盘等中所具备的显示器装置正被广泛利用。OLED是发出光的层由有机化合物构成的薄膜发光二极管。在制造OLED时，需要层叠电极层、有机发光层、绝缘膜等多个薄膜层并进行图案化的薄膜工艺。薄膜工艺利用具备了对应的图案的掩膜组件，例如包括化学气相沉积(CVD，chemical vapor deposition)、溅射(sputtering)、离子电镀(ion plating)、真空蒸镀(evaporation)等工艺。

例如，图1是示出有机发光显示装置的显示面板上的薄膜层的图。具体地，图1是扩大了OLED的显示面板的一部分而示出在相应部分上所层叠的薄膜的图。参照图1，在OLED的显示面板中形成有第二通道(2^nd PASS)、有机层(Organic)、第一通道(1^st PASS)、封盖层(Capping)、阴极(Catho de)、EIL(电子注入层)、ETL(电子传输层)、EML(发光层)、R'、G'、HIL(空穴注入层)/HTL(空穴传输层)、阳极(Anode)等薄膜层。

在用于形成这种薄膜层的薄膜工艺中所利用的掩膜组件具备如下结构：在较坚固的结构的掩膜框架上接合较薄的掩膜片、支撑带(strip)和/或条(stick)等。掩膜框架是具有5～80mm厚度的窗框架或者门框架形状的框架结构，作用在于稳定地保持掩膜组件的模样。掩膜片或者掩膜带是在具有0.01～5.00mm厚度的薄膜金属片或者带上形成了在蒸镀时所要利用的特定图案的方式制成。

掩膜组件的类型包括开口金属掩膜(OMM；Open Metal Mask)组件、精细金属掩膜(FMM；Fine Metal Mask)组件等。

OMM组件是用于在每单位显示装置的整体显示面积上层叠相同材质的薄膜而使用的掩膜组件。OMM组件具备在掩膜框架上接合了开口掩膜片的结构。开口掩膜片包括与基板上的显示器的形状和数目分别对应的形状和数目的单位开口部。例如，参照图1，封盖层(Capping)、阴极(Cathode)、EIL、ETL、HIL/HTL等遍及整体显示面板而形成的薄膜层，通过使用OMM组件的薄膜工艺而形成。

FMM组件是包含细微图案的掩膜，该细微图案用于在与每单位显示装置的显示面积内的细节区域层叠对应的薄膜层。FMM组件具备在掩膜框架上接合了较薄的一个以上的精细金属掩膜(FMM)条的结构。FMM条是在薄膜的金属带或者金属条上形成了在蒸镀时要利用的细微图案的方式制成。FMM条的细微图案包括与基板上的每单位显示装置的显示器内要形成的细密的图案的形状和数目对应的单位图案。例如，参照图1，诸如EML、R'、G'等彩色像素的薄膜层通过使用FMM组件的薄膜工艺而形成。例如，EML相当于红色、绿色、蓝色的层，R'相当于红色的另一层，G'相当于绿色的另一层。上述薄膜层的结构仅是一个示例，薄膜层可以包含其他结构。