[发明专利]掩膜支撑片、掩膜支撑片组件及精细金属掩膜组件及制造方法在审
申请号: | 202110410312.X | 申请日: | 2021-04-16 |
公开(公告)号: | CN114438442A | 公开(公告)日: | 2022-05-06 |
发明(设计)人: | 庾弘宇 | 申请(专利权)人: | 皮姆思株式会社 |
主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04;C23C16/04;H01L21/308 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 金兰 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 支撑 组件 精细 金属 制造 方法 | ||
1.一种掩膜支撑片,作为在显示装置制造中所使用的薄膜工艺用掩膜支撑片,其特征在于,
所述掩膜支撑片是一体型的金属片,
所述掩膜支撑片包括:多个显示开口部,与每单位显示装置的显示区域对应;以及多个突出端,从边缘向外轮廓方向突出,
所述掩膜支撑片被构成为支撑精细金属掩膜条,所述精细金属掩膜条包括与所述显示区域内的细节图案对应的多个细微开口部,
所述显示开口部分别包括盆地型凹口,所述盆地型凹口呈与精细金属掩膜条相邻一侧凹陷的形态。
2.根据权利要求1所述的掩膜支撑片,其特征在于,
在掩膜支撑片的剖视图上,所述盆地型凹口呈与所述精细金属掩膜条相邻一侧较宽而相反侧较窄的形状。
3.根据权利要求1所述的掩膜支撑片,其特征在于,
所述盆地型凹口的深度是所述金属片厚度的5%以上且70%以下。
4.根据权利要求1所述的掩膜支撑片,其特征在于,
在掩膜支撑片的剖视图上,上下被贯穿的区域之外的所述盆地型凹口的一侧的宽度是30μm以上且5mm以下。
5.根据权利要求1所述的掩膜支撑片,其特征在于,
在掩膜支撑片的剖视图上,所述盆地型凹口的最上端宽度比所述精细金属掩膜条的宽度更宽。
6.根据权利要求1所述的掩膜支撑片,其特征在于,
在所述金属片中,位于相邻显示开口部之间的区域包括:
第1区域,被形成为厚度比所述金属片的其他部分更薄;以及
第2区域,在所述第1区域内以岛形态形成,并且被形成为厚度比所述第1区域更厚。
7.根据权利要求1所述的掩膜支撑片,其特征在于,
所述掩膜支撑片被用于有机发光显示装置的制造中。
8.根据权利要求7所述的掩膜支撑片,其特征在于,
所述细节图案是所述显示区域内的发光层、R'或者G'图案。
9.根据权利要求1所述的掩膜支撑片,其特征在于,
掩膜支撑片上定义有多条虚拟的线,所述多条虚拟的线沿着未形成有所述显示开口部的区域向相互交叉的两个方向延伸,
所述突出端从所述虚拟的线两端突出,
掩膜支撑片还包括防护带,所述防护带连接于所述突出端的端部,并且呈围绕掩膜支撑片的形态。
10.根据权利要求9所述的掩膜支撑片,其特征在于,
在所述突出端和所述防护带被连接的部分,形成有厚度比所述金属片的其他部分更薄的切割线。
11.一种掩膜支撑片组件,作为在显示装置制造中使用的薄膜工艺用掩膜支撑片组件,其特征在于,包括:
掩膜框架;以及
权利要求1至权利要求8中任一项所述的掩膜支撑片,接合于所述掩膜框架上。
12.一种精细金属掩膜组件,作为在显示装置制造中所使用的薄膜工艺用精细金属掩膜组件,其特征在于,包括:
根据权利要求11所述的掩膜支撑片组件;以及
精细金属掩膜条,接合于所述掩膜支撑片组件上。
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