[发明专利]基于量子限制斯塔克效应的光开关有效
申请号: | 202110403020.3 | 申请日: | 2021-04-15 |
公开(公告)号: | CN113130696B | 公开(公告)日: | 2022-07-22 |
发明(设计)人: | 张家雨;陈伟敏;项文斌 | 申请(专利权)人: | 东南大学 |
主分类号: | H01L31/109 | 分类号: | H01L31/109;G02F1/35;H01L31/0296;H01L31/0352;H01L31/18 |
代理公司: | 南京瑞弘专利商标事务所(普通合伙) 32249 | 代理人: | 任志艳 |
地址: | 211189 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基于 量子 限制 斯塔克效应 开关 | ||
一种基于量子限制斯塔克效应的光开关,其特征在于,在石英衬底上刻蚀交叉指型电极,交叉电极之间沉积有序取向的II‑VI族半导体纳米片(NPLs)层,其中主要通过液‑液界面自组装,控制油酸/二甘醇(OA/DEG)溶液中油酸的比例,使得纳米片面朝下,两侧边缘分别朝向正负电极,从而增强量子限制斯塔克效应,实现光开关的高对比度。本发明是基于量子限制斯塔克效应的全光开关,设计原理清晰,结构简单,偏振无依赖,高开关比,实现高性能光开关。
技术领域
本发明属于光电开关技术领域,尤其是一种基于量子限制斯塔克效应的光开关。
背景技术
信息互联网时代的飞速发展,对光通信技术的信息存储、传输速率、可靠性提出了更高的要求。光开关作为集成光学系统基本单元器件之一,在芯片内的信息互连、数据远距离传输、网络之间的光信号交换等领域发挥十分重要的作用。此外,光开关还是实现光子计算机和量子计算机的基石,它的性能往往决定了整个系统性能的上限。因此,实现具有高速率、低功耗、高对比度、小尺寸等特性的高性能光开关至关重要。目前,这些光开关大多采用电光控制的光开关,网络中的各个节点频繁的光/电和电/光转换,存在串话、高损耗、传输速率受限等缺点。实现全光开关,即光控开光,是实现全光信号处理技术,突破“电子瓶颈”的重要基本单元器件,在通讯网络中具有很大的价值应用。
随着工业生产对于器件集成度需求的提升,以普通三维材料为基础的器件已经难以达到应用要求,低维半导体器件的兴起将有望解决这个问题。许多低维半导体纳米材料由于特殊的空间结构,能级分布在特定波段发生显著的非线性光学变化,从而广泛应用于非线性光学领域。准零维量子点材料、准一维纳米线材料和二维纳米材料都存在一系列丰富的相关特性。其中,量子限制斯塔克效应的物理起源是在外电场的作用下,量子阱结构中电子-空穴之间的库仑力相互作用形成内建电场,在内外电场共同作用下,导致能带结构的畸变,吸收边移动等现象。基于量子限制斯塔克效应的量子点非线性光开关行为,具有皮秒量级的开关时间,并且不受输入光信号的偏振模式影响。但是基于量子点的全光开关,对于光的滤波效果不显著,光开关比不大,可靠性降低。
发明内容
本发明要解决的技术问题是现有量子点光开关的缺点和不足,提出了一种基于量子限制斯塔克效应的光开关。该光开关为纳米片,开关调制深度优于基于量子点的光开关的调制深度,且具有高开关比、偏振无依赖、结构简单等特性。
本发明的一种基于量子限制斯塔克效应的光开关的制备方法,其特征在于,具体包括如下步骤:
步骤1,在石英衬底上刻蚀交叉指型电极;
对石英衬底烘烤脱水,在石英衬底上涂光刻胶,用掩膜版挡住衬底进行曝光、显影,用高真空镀膜机镀镀多金属膜;清洗掉光刻胶得到周期性的电极结构,即交叉指型电极,交叉指型电极的两侧有金属线引出端,用于连接外部电压的正负极。
步骤2,在交叉电极之间沉积有序取向的II-VI族半导体纳米片(NPLs)层,所述II-VI族半导体纳米片为CdSe/CdS纳米片,且为核/壳异质结构的CdSe/CdS纳米片。
进一步的,步骤2中核/壳异质结构的CdSe/CdS纳米片的制备过过程如下:
步骤2.1,CdSe核纳米片的制备;
Se前驱体的制备:粉和十八烯加入玻璃瓶中;用聚四氟乙烯塞封口密封,超声后得到Se粉悬浊液体。
Cd前驱体的制备:氧化镉、油酸和十八烯加入三口烧瓶;磁力搅拌的条件下,通入氩气进行鼓泡除气,升温至240℃,直至溶液从浑浊变成无色透明,再降温至60℃;将透明前驱体溶液转移至玻璃取样瓶中,用聚四氟乙烯塞封口密封,通入氩气除气。
S前驱体的制备:辛硫醇和十八烯加入玻璃取样瓶;用聚四氟乙烯塞封口密封,通入氩气除气,摇晃使充分混合。
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