[发明专利]掩膜版及掩膜版的制作方法在审

专利信息
申请号: 202110399514.9 申请日: 2021-04-14
公开(公告)号: CN113106388A 公开(公告)日: 2021-07-13
发明(设计)人: 宋平;肖志慧;单为健;王亚玲;孙增标 申请(专利权)人: 昆山国显光电有限公司
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C14/24;H01L27/32;H01L51/00
代理公司: 成都极刻智慧知识产权代理事务所(普通合伙) 51310 代理人: 唐维虎
地址: 215000 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 掩膜版 制作方法
【说明书】:

本申请实施例提供的掩膜版及掩膜版的制作方法,涉及显示技术领域,像素开口区与掩膜条框架形成的闭合区域重合,如此设置,可以使得像素开口区完全填充整个闭合区域。如此不必在掩膜条中预先制作特定形状的像素开口区,在像素排布及像素密度不变而面板开口形状改变时,只需要改变掩膜版本体上面板开口的形状即可,不需要对掩膜条中的像素开口区重新设计,改变掩膜版本体上的面板开口的形状相对于重新设计掩膜条中的像素开口区更加简单,制作成本也会更低,如此可以降低OLED面板的研发成本。同时,像素开口区完全填充整个闭合区域还可以利于张网掩膜条时,应力在像素开口区上均匀分布,提高像素位置精度并减小张网褶皱。

技术领域

本申请涉及显示技术领域,具体而言,涉及一种掩膜版及掩膜版的制作方法。

背景技术

OLED(Organic Light-Emitting Diode,有机发光二极管)作为自发光的显示器件,为提高显示的色域、对比度及亮度等显示特性,一般会采用独立的颜色发光层(比如,RGB发光层)实现彩色显示。在蒸镀独立的颜色发光层时需要使用到掩膜版,比如,精密金属掩膜版(Fine Metal Mask,FMM)。

以FMM为例,制作FMM的过程可以是依次将遮挡掩膜(Cover Mask)、支撑掩膜(Howling Mask)、对准掩膜(Align Mask)、虚拟掩膜(Dummy Mask)以及掩膜条(SheetMask)焊接在框架(Frame)上。面板的外形与掩膜条中的像素开口区对应,然而,掩膜条中一般只有一个形状的像素开口区,若面板形状改变则需要重新设计掩膜条以调整掩膜条上的像素开口区形状,不利于OLED的研发验证,会增加OLED面板的研发成本。

发明内容

为了克服上述技术背景中所提及的技术问题,本申请实施例提供一种掩膜版及掩膜版的制作方法。

本申请的第一方面,提供一种掩膜版,包括掩膜版本体及固定在所述掩膜版本体上的掩膜条;

所述掩膜版本体上设置有多个面板开口;

所述掩膜条包括掩膜条框架及像素开口区,所述掩膜条框架包括多个首尾相连的边框,所述多个首尾相连的边框形成一个闭合区域,所述像素开口区位于所述掩膜条框架内,所述闭合区域与所述像素开口区重合;

所述面板开口位于所述像素开口区在所述掩膜版本体上的正投影之内。

在上述结构中,掩膜条包括像素开口区及多个首尾相连的边框组成的掩膜条框架,像素开口区与掩膜条框架形成的闭合区域重合,如此设置,可以使得像素开口区完全填充整个闭合区域,相对于现有技术,不必在掩膜条中预先制作特定形状的像素开口区,在像素排布及像素密度不变而面板开口形状改变时,只需要改变掩膜版本体上面板开口的形状即可,不需要对掩膜条中的像素开口区重新设计,改变掩膜版本体上的面板开口的形状相对于重新设计掩膜条中的像素开口区更加简单,制作成本也会更低,如此可以降低OLED面板的研发成本。同时,像素开口区完全填充整个闭合区域还可以利于张网掩膜条时,应力在像素开口区上均匀分布,提高像素位置精度并减小张网褶皱。

在本申请的一种可能实施例中,所述掩膜版本体上的面板开口数量为多个,多个所述面板开口中至少存在两个面板开口的形状不同。

在掩膜版本体上一次性制作多个形状不同的面板开口,可在一次蒸镀工艺过程中完成对不同形状面板的颜色发光层的制作,相对于现有技术针对不同形状的面板需要重新设计掩模板,并分别进行蒸镀工艺的方式,可以大大节省面板研发验证阶段的研发成本,并提升研发效率。

在本申请的一种可能实施例中,所述掩膜版本体包括相互平行的长边及相互平行的短边;

多个所述面板开口在所述掩膜版本体上以所述长边的中线为对称轴成轴对称分布;

所述掩膜条焊接在所述掩膜版本体的两长边上,所述掩膜条以所述长边的中线为对称轴成轴对称分布。

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