[发明专利]掩膜版及掩膜版的制作方法

权利要求书

1.一种掩膜版，其特征在于，包括掩膜版本体及固定在所述掩膜版本体上的掩膜条；

所述掩膜版本体上设置有面板开口；

所述掩膜条包括掩膜条框架及像素开口区，所述掩膜条框架包括多个首尾相连的边框，所述多个首尾相连的边框形成一个闭合区域，所述像素开口区位于所述掩膜条框架内，所述闭合区域与所述像素开口区重合；

所述面板开口位于所述像素开口区在所述掩膜版本体上的正投影之内。

2.如权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述掩膜版本体上的面板开口数量为多个，多个所述面板开口中至少存在两个面板开口的形状不同。

3.如权利要求2所述的掩膜版，其特征在于，所述掩膜版本体包括相互平行的长边及相互平行的短边；

多个所述面板开口在所述掩膜版本体上以所述长边的中线为对称轴成轴对称分布；

所述掩膜条焊接在所述掩膜版本体的两长边上，所述掩膜条以所述长边的中线为对称轴成轴对称分布。

4.如权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述掩膜条框架包括两个长边框及两个短边框，所述长边框与所述短边框依次首尾相连形成一矩形闭合区域，所述像素开口区与所述矩形闭合区域重合。

5.如权利要求4所述的掩膜版，其特征在于，所述掩膜条框架的两条短边框与所述掩膜版本体固定。

6.如权利要求1-5中任意一项所述的掩膜版，其特征在于，所述掩膜版本体包括开口为所述面板开口的开口掩膜版，所述掩膜条包括精密金属掩膜条。

7.一种权利要求1-6中任意一项所述掩膜版的制作方法，其特征在于，所述方法还包括：

根据待蒸镀面板中的像素排布及像素密度制作包括像素开口区的掩膜条，其中，所述掩膜条还包括位于所述掩膜条延伸方向两端的拉伸区；

根据所述待蒸镀面板的形状在一金属基板上制作包括面板开口的掩膜版本体；

将所述掩膜条与所述掩膜版本体对位，在对位成功后，通过拉伸所述掩膜条两端的拉伸区将所述掩膜条在所述掩膜版本体上展开；

将展开后的所述掩膜条与所述掩膜版本体固定得到所述掩膜版。

8.如权利要求7所述的掩膜版的制作方法，其特征在于，在得到所述掩膜版之后，所述方法还包括：

对所述掩膜条上的拉伸区进行裁切以去除所述拉伸区。

9.如权利要求7所述的掩膜版的制作方法，其特征在于，所述根据所述待蒸镀面板的形状在一金属基板上制作包括面板开口的掩膜版本体的步骤，包括：

根据所述待蒸镀面板的不同形状设计在所述基板上制作至少存在两个面板开口的形状不同的多个面板开口，其中，所述掩膜版本体包括相互平行的长边及相互平行的短边，多个所述面板开口在所述掩膜版本体上以所述长边的中线为对称轴成轴对称分布。

10.如权利要求9所述的掩膜版的制作方法，其特征在于，所述将展开后的所述掩膜条与所述掩膜版本体固定得到所述掩膜版的步骤，包括：

按照由所述掩膜版本体的中间向两侧的顺序，将多个所述掩膜条依次固定在所述掩膜版本体上，得到所述掩膜版，其中，所述掩膜条以所述长边的中线为对称轴成轴对称分布。