[发明专利]一种色转换层的像素隔离矩阵结构及方法

说明书

本发明涉及一种色转换层的像素隔离矩阵结构，包括隔离矩阵基底、第一膜系、第二膜系和第三膜系；所述第一膜系镀于基底外表面；所述第二膜系和第三膜系依次镀于基底内表面；所述第一膜系为红、绿光反射膜系，第二膜系为蓝光透射膜系，第三膜系为蓝光反射膜系。本发明能够有效提高显示器色转换出光率。

技术领域

本发明涉及平板显示领域，具体涉及一种色转换层的像素隔离矩阵结构及方法。

背景技术

如今，显示技术是发展十分迅速的，平板显示技术已经成为如今生活中应用最广泛的技术之一，随着平板显示技术的发展，对效果更好的显示产品的需求也越来越高，人们对高颜色纯度，高光效率和高色域的显示器的需求尤为突出。传统全彩化显示是通过传统吸收型滤色片实现不同颜色光的过滤，然而由于吸收型滤色片通常由光谱较宽的光刻胶(PR)组成，容易发生发射光谱重叠和色串扰，同时为了提高不同波长的光谱传输效率，高能量损耗、低效率和窄色域都是需要付出的代价，因此迫切需求新型色转换技术实现高色域、高颜色纯度和高光效率。

然而，已经被提出的用于解决高色域的荧光粉、量子点等色转换技术主要面临着色串扰和转换效率不够高的问题，因此改变隔离矩阵微结构以及隔离矩阵内部结构来实现隔离子像素、增强显示器色转换出光率的新型隔离矩阵十分有必要。传统显示器中的隔离矩阵主要材料为光刻胶，其只针对子像素具有隔离作用，无法提高色转换出光率；隔离矩阵相关研究多注重于隔离矩阵排布方式、隔离矩阵新材料以及一般隔离矩阵制造方法，极少研究有关于隔离矩阵微结构以及隔离矩阵内部结构；已提出的子像素层常用微结构无法完全适用替换隔离矩阵。

综上，现有的技术都无法为提高显示器色转换出光率的新材料隔离隔离矩阵提出一种可靠的理论依据和制备方法，为了解决这一问题，有必要提出能够准确地实现隔离子像素提高色转换出光率隔离矩阵的理论指导方法及其制备方法。所述隔离矩阵通过反射子像素相对应颜色光后出射以及利用入射至隔离矩阵内部光源光来实现对子像素的隔离以及对色转换出光率的提高。

发明内容

有鉴于此，本发明的目的在于提供一种色转换层的像素隔离矩阵结构及其制备方法，能够有效提高显示器色转换出光率。

为实现上述目的，本发明采用如下技术方案：

一种色转换层的像素隔离矩阵结构，包括隔离矩阵基底、第一膜系、第二膜系和第三膜系；所述第一膜系镀于基底外表面；所述第二膜系和第三膜系依次镀于基底内表面；所述第一膜系为红、绿光反射膜系，第二膜系为蓝光透射膜系，第三膜系为蓝光反射膜系。

进一步的，所述第一膜系、第二膜系和第三膜系均由多个单层膜组成。

进一步的，所述各单层膜的厚度由下式确定：

第一膜系，单层膜膜厚定义式为

e₁＝(kλ_R/G-△′)/2n

第二膜系，单层膜膜厚定义式为

第三膜系，单层膜膜厚定义式为

e₃＝(kλ_B-△′)/2n

式中，n表示膜的折射率，e₁、e₂、e₃分别表示三种膜系内单层膜的厚度，△'表示半波损失值，λ_R、λ_G、λ_B分别为显示用到的三基色光确定的所覆盖的波段范围内的波长；k为正整数。

进一步的，所述膜系层数m由各个膜系中所控制的波长上下限范围[λ_Low，λ_High]和波长间隔a决定，满足下式：