[发明专利]一种色转换层的像素隔离矩阵结构及方法

权利要求书

1.一种色转换层的像素隔离矩阵结构，其特征在于，包括隔离矩阵基底、第一膜系、第二膜系和第三膜系；所述第一膜系镀于基底外表面；所述第二膜系和第三膜系依次镀于基底内表面；所述第一膜系为红、绿光反射膜系，第二膜系为蓝光透射膜系，第三膜系为蓝光反射膜系。

2.根据权利要求1所述的一种色转换层的像素隔离矩阵结构，其特征在于，所述第一膜系、第二膜系和第三膜系均由多个单层膜组成。

3.根据权利要求2所述的一种色转换层的像素隔离矩阵结构，其特征在于，所述各单层膜的厚度由下式确定：

第一膜系，单层膜膜厚定义式为

e₁＝(kλ_R/G-△′)/2n

第二膜系，单层膜膜厚定义式为

第三膜系，单层膜膜厚定义式为

e₃＝(kλ_B-△′)/2n

式中，n表示膜的折射率，e₁、e₂、e₃分别表示三种膜系内单层膜的厚度，△'表示半波损失值，λ_R、λ_G、λ_B分别为显示用到的三基色光确定的所覆盖的波段范围内的波长；k为正整数。

4.根据权利要求2所述的一种色转换层的像素隔离矩阵结构，其特征在于，所述膜系层数m由各个膜系中所控制的波长上下限范围[λ_Low，λ_High]和波长间隔a决定，满足下式：

确定三层膜系分别的波长范围[λ_{R_Low}，λ_{R_High}]，[λ_{G_Low}，λ_{G_High}]，[λ_{B_Low}，λ_{B_High}]；a为波长间隔。

5.一种色转换层的像素隔离矩阵结构的制备方法，其特征在于，包括以下步骤，

步骤S1:根据光源和色转换层确定隔离矩阵基底的外形结构参数；

步骤S2:选定隔离矩阵基底材料以及各个膜系中单层膜层材料；隔离矩阵和显示面板基底材料需要允许光源光的透过，选定膜层材料的折射率需要满足薄膜干涉的折射率要求，半波损失值将由各个膜层的折射率决定；

步骤S3：根据显示器所用三基色发光特性、三基色光谱的峰宽和中心波长，计算获得三基色光谱，取光谱数值大于10^-4，选定波段间隔a，确定波段范围。

步骤S4：计算第一膜系集合的各单层膜厚度；根据S3得到的红光和绿光波段范围，将红光和绿光波长分别带入第一膜系膜厚定义式，求得适合的红光和绿光反射膜膜层厚度，得到第一膜系集合。同理，根据S3得到的蓝光波长范围，将蓝光波长分别代第二膜系和第三膜系膜厚定义式，求得适合的透射膜和反射膜膜层厚度，得到第二膜系集合和第三膜系集合；镀膜厚度e与层数m由S4的膜系中的各单层膜厚和选用的波长间隔决定。

S5：将第一膜系、第二膜系和第三膜系分别镀于基底上，制备隔离矩阵结构。

6.根据权利要求5所述的一种色转换层的像素隔离矩阵结构的制备方法，其特征在于，所外形结构参数包括上下底面尺寸、隔离矩阵高度、倾斜角度、斜率大小，其中上底面朝向显示出射光方向一侧底面，下底面为朝向显示发光源一侧底面，倾斜角度定义为隔离矩阵与子像素密接的侧边与下底面的夹角，斜率定义为倾斜角度的正切值。

7.根据权利要求5所述的一种色转换层的像素隔离矩阵结构的制备方法，其特征在于，所述隔离矩阵为灯罩式结构，上底面与侧闭封闭，下底面敞开，内部中空，基底厚度一定，其制作成型于显示面板基底上，并与显示面板形成一体化或分离结构，单个隔离矩阵位于相邻子像素之间，高度大于或等于相邻色转换层的高度。