[发明专利]光电传感器及其制作方法、显示面板

说明书

本申请实施例提供一种光电传感器及其制作方法、显示面板，该光电传感器包括透明衬底基板、空穴传输层、吸光层和电子传输层，通过将空穴传输层设置在靠近透明衬底基板的一侧，并利用位于上方的吸光层和电子传输层对空穴传输层进行遮挡，避免空穴传输层中的氧化钼在膜层清洗的过程中发生溶解，从而降低采用氧化钼作为空穴传输层材料的光电传感器的制程难度。

技术领域

本申请涉及显示技术领域，尤其涉及一种光电传感器及其制作方法、显示面板。

背景技术

随着信息技术的快速发展，利用指纹、语音、面部、手、视网膜或者虹膜作为个人识别系统已经成为安全可靠的生物识别技术。从成本、易用性和准确性等层面上看，指纹识别已经成为用于验证身份的领先方法，以替代常规的密码和密钥。传统的光学指纹识别传感器存在成本高、体积大和图像失真等问题。基于硅芯片的传感器，由于其尺寸小、价格便宜等优势，逐渐取代传统的光学指纹识别传感器。然而，基于硅芯片的传感器存在容易发生静电击穿以及易受环境条件影响等问题，限制了其进一步应用。

相比于硅基PN结传感器，采用半导体异质结构的传感器，具有高光电转化效率、高可靠性、低成本等优势。此外，利用具有高功函数的透明氧化物MoOx作为空穴传输层材料，可以减少光的额外损失，并提升传感器的空穴传输效率。在制备传感器的每一道制程之前都会对膜层表面进行清洗，由于高功函数的MoOx易溶于水，在对由MoOx制备而成的空穴传输层表面进行清洗时，MoOx会发生溶解，导致后续制程无法进行。

综上所述，现有采用氧化钼作为空穴传输层材料的传感器存在制程困难的问题。故，有必要提供一种光电传感器及其制作方法、显示面板。

发明内容

本申请实施例提供一种光电传感器及其制作方法、显示面板，用于解决现有采用氧化钼作为空穴传输层材料的传感器存在制程困难的问题。

本申请实施例提供一种光电传感器，包括：

透明衬底基板；

空穴传输层，所述空穴传输层设置于所述透明衬底基板上；

吸光层，所述吸光层设置于所述空穴传输层背离所述透明衬底基板的一侧；

电子传输层，所述电子传输层设置于所述吸光层背离所述空穴传输层的一侧；

其中，所述透明衬底基板背离所述空穴传输层的一侧为所述光电传感器的入光侧，所述空穴传输层的材料为氧化钼。

根据本申请一实施例，所述氧化钼的禁带宽大于或等于2.8eV且小于或等于3.6eV，所述氧化钼的功函数大于或等于5.2eV且小于或等于6.8eV。

根据本申请一实施例，所述吸光层为本征半导体，所述电子传输层为电子型半导体，所述空穴传输层与所述吸光层和所述电子传输层构成半导体异质结构。

根据本申请一实施例，所述吸光层和所述电子传输层的材料均包括非晶硅、微晶硅和多晶硅中的任意一种。

根据本申请一实施例，所述光电传感器包括：

第一电极，所述第一电极设置于所述透明衬底基板与所述空穴传输层之间；

第二电极，所述第二电极设置于所述电子传输层背离所述吸光层的一侧。

根据本申请一实施例，所述第一电极为氧化铟锌、氧化铟锡、氧化锌和氧化镓锌中的至少一种金属氧化物材料形成的单层或多层结构。

根据本申请一实施例，所述第二电极为钼、铜、铝、钛、镍和镉中的至少一种金属材料形成的单层或多层结构。

根据本申请一实施例，所述光电传感器包括绝缘层，所述绝缘层设置于所述透明衬底基板上，并且覆盖所述第一电极和所述电子传输层，所述绝缘层上设有第一过孔和第二过孔，所述第一过孔暴露出所述第一电极，所述第二过孔暴露出所述电子传输层。