[发明专利]高抗拉双光锂电铜箔及其生产工艺有效
申请号: | 202110393847.0 | 申请日: | 2021-04-12 |
公开(公告)号: | CN113322495B | 公开(公告)日: | 2022-04-26 |
发明(设计)人: | 张欣 | 申请(专利权)人: | 浙江花园新能源股份有限公司 |
主分类号: | C25D1/04 | 分类号: | C25D1/04;C23G1/10;C25D3/12;C25D3/22;C25D3/04;C25D5/34;C25D7/06;C23F17/00;H01M4/66;H01M4/70;H01M10/052 |
代理公司: | 金华市婺实专利代理事务所(普通合伙) 33340 | 代理人: | 胡恩晗 |
地址: | 322121 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 高抗拉双光锂电 铜箔 及其 生产工艺 | ||
本发明提供了一种高抗拉双光锂电铜箔及其生产工艺,属于铜箔生产技术领域。它解决了现有的锂电箔抗拉强度不足的问题。本生产工艺包括溶铜、过滤、添加添加剂、电镀生箔、酸洗、粗化、固化、镀镍、镀锌、镀铬、涂硅烷、烘烤、收卷等工艺,其中添加剂的成分具有聚乙二醇(PEG)、聚乙烯亚胺、2‑巯基吡啶、2‑氨基噻唑的成分。与现有技术相比,本生产工艺获得的铜箔抗拉强度相较于之前具有极大的提升,同时铜箔的粗糙度更低,柔顺度更好。
技术领域
本发明属于铜箔生产技术领域,涉及一种高抗拉双光锂电铜箔及其生产工艺。
背景技术
高抗拉锂电铜箔对提升锂电池的电池容量有很大的作用,随着锂电池的电池容量密度要求的提升,高抗拉的锂电箔已经成为锂电铜箔发展的主要方向。
在现有制造锂电箔的技术中,添加剂主要有羟乙基纤维素(HEC)、胶原蛋白、光亮剂(聚二硫二丙烷磺酸钠(SPS)或3~巯基~1~丙烷磺酸钠)等添加制造生产,此配方的抗拉强度不能满足客户对高抗拉铜箔的要求,此条件抗拉在430MPa以下,延伸在4%,因此在现有添加剂的基础上进行改进工艺从而得到更高抗拉强度的锂电铜箔是十分具有必要的。
发明内容
本发明的目的是针对现有的锂电箔抗拉强度不足的问题,而提出的一种高抗拉双光锂电铜箔及其生产工艺。
本发明的目的可通过下列技术方案来实现:
一种高抗拉双光锂电铜箔的生产工艺,其特征在于,包括以下步骤:
步骤1:取铜线和硫酸,放入溶铜塔中,溶解后得到混合硫酸铜溶液,其中:硫酸的浓度为340~360g/L,溶铜塔内的环境温度为35~40℃;
步骤2:混合硫酸铜溶液溢流到污液塔内,经过污液泵的抽液效果后先流入到过滤器中进行过滤功效,获得纯净硫酸铜溶液,然后再将纯净硫酸铜溶液压入到净液塔内;
步骤3:通过计量泵将添加剂塔中的添加剂以计量化的形式打入到净液塔内,搅拌均匀,获得电解液,此时净液塔内该添加剂的各项成分浓度为:5~15g/L的整平剂——羟乙基纤维素(HEC)、2~13g/L的除应力剂——糖精钠、4~15g/L的光亮剂——聚二硫二丙烷磺酸钠(SPS)、4~10g/L的聚乙二醇(PEG)、2~10mg/L的聚乙烯亚胺、3~9g/L的2-巯基吡啶、7~15g/L的2-氨基噻唑;
步骤4:通过净液泵将电解液抽至生箔机内,经过电镀生箔工艺后,获得铜箔半成品,余废料回流到溶铜塔或污液塔内;
步骤5:对铜箔半成品的表面进行酸洗工艺,该酸洗过程采用浓度为130~140g/L的稀硫酸;
步骤6:通过砂纸对铜箔半成品的表面进行打磨粗化处理;
步骤7:通过电辊对铜箔半成品的表面进行固化处理;
步骤8:以电镀形式对铜箔半成品依次完成镀镍、镀锌、镀铬的工艺,其中:镀镍过程中镍离子的浓度为3.2g/L~4.5g/L,pH为10~11.5,电镀液的温度为35℃~40℃,电流密度为0.8~1.5A/dm2;镀锌过程中锌离子的浓度为4.9g/L~6.0g/L,pH为10~11.5,电镀液的温度为35℃~40℃,电流密度为0.5~0.9A/dm2;镀铬过程中铬离子的浓度为1.5g/L~2.5g/L,pH为10~11.5,电镀液的温度为25℃~35℃,电流密度为0.8~1.2A/dm2;
步骤9:对铜箔半成品表面的镀锌镍铬防氧化层外喷涂硅烷偶联剂,完成涂硅烷工艺;
步骤10:铜箔半成品进行烘烤处理,得到铜箔成品;
步骤11:通过绕卷包装机对铜箔成品进行收卷包装。
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