[发明专利]基于范德华力的压印脱模装置及脱模方法有效

专利信息
申请号: 202110391856.6 申请日: 2021-04-13
公开(公告)号: CN113085428B 公开(公告)日: 2023-03-24
发明(设计)人: 郭俊;任明俊;张鑫泉;张哲 申请(专利权)人: 霖鼎光学(上海)有限公司
主分类号: B44B5/00 分类号: B44B5/00;B44B5/02
代理公司: 上海泰能知识产权代理事务所(普通合伙) 31233 代理人: 钱文斌;宋缨
地址: 201109 上海市*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 基于 范德华力 压印 脱模 装置 方法
【说明书】:

发明涉及一种基于范德华力的压印脱模装置及脱模方法,装置包括真空腔箱体,所述真空腔箱体内设置有基平台,所述基平台用于放置待脱模的模板与薄膜,所述真空腔箱体内还包括升降平台和起模刀;所述升降平台在靠近所述基平台的一面设置有吸附单体,所述吸附单体能够与所述待脱模的薄膜产生范德华力;所述起模刀用于切入所述待脱模的模板与薄膜的粘合界面,且刀面与所述粘合界面始终保持共面。本发明能够实现对大尺寸晶圆的模板与薄膜之间的一次性保留完整微结构的脱模。

技术领域

本发明涉及超精密制造技术领域,特别是涉及一种基于范德华力的压印脱模装置及脱模方法。

背景技术

本申请中薄膜指纳米压印中压印胶固化后,压印胶和衬底的总称。本申请中模板与薄膜的粘合界面指的是模板与固化后压印胶的粘合界面。

模板与薄膜之间的分离是纳米压印中的一个很重要的步骤,关系到模板上图案(微结构)到压印胶的成功转印。

模板与薄膜之间进行脱模的方法有:手动脱模法,真空吸附拉脱法,吹气法,超声波震动法,低气压起模法。手动脱模法是最传统的通过双手脱模,模板与薄膜在脱模过程中会受力不均导致压印图案(微结构)受到损坏。真空吸附拉脱法是通过真空吸盘的真空吸力将模板和薄膜吸附的升降机构上,通过施加电场或者机械传动驱动升降机构的升降运动产生拉力,实现脱模。所谓吹气法是通过真空吸盘的真空吸力将模板和薄膜分别吸附到升降机构上,通过在模板与薄膜粘合的外部边缘界面吹入压缩空气,将模板与薄膜的外边缘分离。吹入的压缩空气产生的水平力结合升降机构的向下向上运动产生的拉力,实现模板与薄膜从四周到中心连续脱模。超声波振动法是通过真空吸盘的真空吸力将模板和薄膜分别吸附到升降机构上,施加超声波,利用固化后压印胶与模板弹性模量从差异和对超声波的吸收能力不同,导致压印胶与模板产生不同的振动位移使得模板与压印胶之间的粘合力下降,结合外部升降机构通过真空吸盘在模板和薄膜上产生拉力,实现脱模。低气压起模法是通过真空吸盘的吸力将薄膜吸附固定,模板尺寸很大,模板将脱模腔分为了上腔和下腔,上下腔不连通。模板一部分中心圆形区域与薄膜粘合,薄膜所在的下腔为低压压力环境,上腔为真空环境,通过下腔低压压力作用在模板上产生拉力,从四周向中心脱模。

由于模板与薄膜之间紧密粘连,为了在模板和薄膜上施加方向相反的拉力,目前脱模方法普遍特点是:利用外部气压与真空吸盘的压差力,将模板或/和薄膜吸附固定在真空吸盘上,通过使两个真空吸盘产生相对位移,从而在模板与薄膜之间施加拉力实现脱模。由于待脱模的模板与压印胶之间不存在空气,相比于外部气压是负压,存在压差力的作用,压差力远远大于脱模力。脱模过程中,拉力不仅需要克服压印胶与模板之间的粘合力,还需要克服压差力。即使对压印胶和模板进行了抗粘连处理,在压印胶和模板分离时,由于压差力的作用,依然会出现压印图案(微结构)断裂受损导致模板和薄膜损坏。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是提供一种基于范德华力的压印脱模装置及脱模方法,实现对大尺寸晶圆的模板与薄膜之间的一次性保留完整微结构的脱模。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:提供一种基于范德华力的压印脱模装置,包括真空腔箱体,所述真空腔箱体内设置有基平台,所述基平台用于放置待脱模的模板与薄膜,所述真空腔箱体内还包括升降平台和起模刀;所述升降平台在靠近所述基平台的一面设置有吸附单体,所述吸附单体能够与所述待脱模的薄膜产生范德华力;所述起模刀用于切入所述待脱模的模板与薄膜的粘合界面,且刀面与所述粘合界面始终保持共面。

所述吸附单体有多个,其中,一个吸附单体布置在所述待脱模的模板与薄膜之间粘连力最小的位置,其余吸附单体布置在与所述粘连力最小的位置与所述待脱模的模板的中心位置的连线相互垂直的若干揭开线上。

所述揭开线沿着所述边缘位置与所述待脱模的模板的中心位置的连线均匀分布。

所述揭开线的两端分别布置一个所述吸附单体,两个所述吸附单体之间均匀分布若干个所述吸附单体。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于霖鼎光学(上海)有限公司,未经霖鼎光学(上海)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110391856.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top