[发明专利]基于范德华力的压印脱模装置及脱模方法有效

专利信息
申请号: 202110391856.6 申请日: 2021-04-13
公开(公告)号: CN113085428B 公开(公告)日: 2023-03-24
发明(设计)人: 郭俊;任明俊;张鑫泉;张哲 申请(专利权)人: 霖鼎光学(上海)有限公司
主分类号: B44B5/00 分类号: B44B5/00;B44B5/02
代理公司: 上海泰能知识产权代理事务所(普通合伙) 31233 代理人: 钱文斌;宋缨
地址: 201109 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 基于 范德华力 压印 脱模 装置 方法
【权利要求书】:

1.一种基于范德华力的压印脱模装置,包括真空腔箱体,所述真空腔箱体内设置有基平台,所述基平台用于放置待脱模的模板与薄膜,其特征在于,所述真空腔箱体内还包括升降平台和起模刀;所述升降平台在靠近所述基平台的一面设置有吸附单体,所述吸附单体能够与所述待脱模的薄膜产生范德华力;所述起模刀用于切入所述待脱模的模板与薄膜的粘合界面,且刀面与所述粘合界面始终保持共面;所述吸附单体包括弹性件和吸附盘,所述弹性件的一端与所述升降平台相连,另一端与所述吸附盘相连,所述吸附盘与所述待脱模的薄膜接触的一面为能够产生范德华力的仿生吸附结构;所述吸附单体有多个,其中,一个吸附单体布置在所述待脱模的模板与薄膜之间粘连力最小的位置,其余吸附单体布置在与所述粘连力最小的位置与所述待脱模的模板的中心位置的连线相互垂直的若干揭开线上;所述粘连力最小的位置为模板与薄膜的边缘位置;所述揭开线沿着所述边缘位置与所述待脱模的模板的中心位置的连线均匀分布。

2.根据权利要求1所述的基于范德华力的压印脱模装置,其特征在于,所述揭开线的两端分别布置一个所述吸附单体,两个所述吸附单体之间均匀分布若干个所述吸附单体。

3.根据权利要求1所述的基于范德华力的压印脱模装置,其特征在于,位于升降平台最外圈的吸附单体的包络圆与所述待脱模的薄膜的外圆重合。

4.根据权利要求1所述的基于范德华力的压印脱模装置,其特征在于,所述升降平台包括基圆盘,所述基圆盘的中心位置设置有套筒,所述基圆盘的边缘设置有导向轮毂;所述导向轮毂末端设置有一个通孔,所述通孔与位于所述真空腔箱体内的导柱相配合,所述套筒与位于所述真空腔箱体内的丝杠电机的丝杆螺纹配合,通过丝杆的旋转带动升降平台沿着所述导柱产生上升运动和下降运动。

5.根据权利要求1所述的基于范德华力的压印脱模装置,其特征在于,所述起模刀安装在直线推动器的推杆上,所述直线推动器固定安装在所述真空腔箱体的内侧壁,所述推杆推动所述起模刀切入所述待脱模的模板与薄膜的粘合界面,切入过程中,所述起模刀的刀面始终保持与所述粘合界面共面。

6.根据权利要求1所述的基于范德华力的压印脱模装置,其特征在于,所述真空腔箱体的侧面设有圆形贯通孔,所述圆形贯通孔上安装有抽气管,所述抽气管的另一端安装在真空抽气机上。

7.一种基于范德华力的压印脱模方法,其特征在于,采用如权利要求1-6中任一所述的压印脱模装置,包括以下步骤:

(1)将待脱模的模板与薄膜放置在基平台的脱模部位;

(2)将所述真空腔箱体调整为真空状态;

(3)下降所述升降平台,使得所述吸附单体的底部与所述待脱模的薄模接触,并在所述吸附单体与所述待脱模的薄膜之间产生范德华力,停止下降所述升降平台;

(4)起模刀运动到所述待脱模的模板与薄膜的粘合界面处,并沿着粘合界面切入,切入后,起模刀停止运动并保持所在位置;

(5)缓慢上升所述升降平台,向上的拉力逐渐增大到大于所述起模刀切入点的粘附力,所述起模刀切入点的薄膜与模板脱离,粘附力最小部位传递到下一揭开线,升降平台继续缓慢上升,拉力继续增大到大于揭开线处的拉力,使得薄膜与模板分离;

(6)脱模完成,去除薄膜与模板。

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