[发明专利]存储器装置有效
申请号: | 202110375096.X | 申请日: | 2021-04-08 |
公开(公告)号: | CN113540104B | 公开(公告)日: | 2023-06-30 |
发明(设计)人: | 孙文堂;许家荣;陈学威 | 申请(专利权)人: | 力旺电子股份有限公司 |
主分类号: | H10B41/30 | 分类号: | H10B41/30 |
代理公司: | 深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 | 代理人: | 江耀锋 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 存储器 装置 | ||
1.一种存储器装置,其特征在于,所述存储器装置包括:
第一阱;
第二阱,位于所述第一阱上,包括第一部分,及第二部分;
第三阱,包括第一部分及第二部分,所述第一部分位于所述第二阱的所述第一部分上,所述第二部分位于所述第二阱的所述第二部分上;
浮动栅极层,位于所述第三阱上方;
第一掺杂区,位于所述第三阱的所述第一部分;
第二掺杂区,位于所述第三阱的所述第一部分;
第三掺杂区,位于所述第三阱的所述第一部分,且相邻于所述第一掺杂区;沟槽隔离层,用以隔离所述第二阱的所述第一部分及所述第二部分,且隔离所述第三阱的所述第一部分及所述第二部分;及
字线接点,设置于所述第三阱区的所述第二部分上,用以接收字线电压。
2.如权利要求1所述的存储器装置,其中所述第一阱为p型阱,且所述第二阱及所述第三阱为n型阱。
3.如权利要求1所述的存储器装置,其特征在于,还包括:
第四阱,位于所述第一阱的下方,具有相异于所述第一阱的掺杂类型。
4.如权利要求1所述的存储器装置,其特征在于,所述浮动栅极层及所述第三阱的所述第一部分有第一重迭面积;所述浮动栅极层及所述第三阱的所述第二部分有第二重迭面积;且所述第一重迭面积小于所述第二重迭面积。
5.如权利要求1所述的存储器装置,其特征在于,还包括:
第一氧化层,位于所述第三阱的所述第一部分及所述浮动栅极层之间;及
第二氧化层,位于所述第三阱的所述第二部分及所述浮动栅极层之间。
6.如权利要求5所述的存储器装置,其特征在于,还包括:
源极线接点,设置于所述第一掺杂区及所述第三掺杂区之间的接触面上,用以接收源极线电压。
7.如权利要求6所述的存储器装置,其特征在于,还包括:
位线接点,设置于所述第二掺杂区上,用以接收位线电压。
8.如权利要求7所述的存储器装置,其特征在于,还包括:
第一阱接点,设置于所述第一阱以接收第一阱电压。
9.如权利要求8所述的存储器装置,其特征在于,还包括:
第二阱接点,设置于所述第二阱的所述第一部分以接收第二阱电压。
10.如权利要求1所述的存储器装置,其特征在于,所述第一掺杂区及所述第二掺杂区为p型掺杂区,且所述第三掺杂区为n型掺杂区。
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