[发明专利]存储器装置有效

专利信息
申请号: 202110375096.X 申请日: 2021-04-08
公开(公告)号: CN113540104B 公开(公告)日: 2023-06-30
发明(设计)人: 孙文堂;许家荣;陈学威 申请(专利权)人: 力旺电子股份有限公司
主分类号: H10B41/30 分类号: H10B41/30
代理公司: 深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 代理人: 江耀锋
地址: 中国台*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 存储器 装置
【权利要求书】:

1.一种存储器装置,其特征在于,所述存储器装置包括:

第一阱;

第二阱,位于所述第一阱上,包括第一部分,及第二部分;

第三阱,包括第一部分及第二部分,所述第一部分位于所述第二阱的所述第一部分上,所述第二部分位于所述第二阱的所述第二部分上;

浮动栅极层,位于所述第三阱上方;

第一掺杂区,位于所述第三阱的所述第一部分;

第二掺杂区,位于所述第三阱的所述第一部分;

第三掺杂区,位于所述第三阱的所述第一部分,且相邻于所述第一掺杂区;沟槽隔离层,用以隔离所述第二阱的所述第一部分及所述第二部分,且隔离所述第三阱的所述第一部分及所述第二部分;及

字线接点,设置于所述第三阱区的所述第二部分上,用以接收字线电压。

2.如权利要求1所述的存储器装置,其中所述第一阱为p型阱,且所述第二阱及所述第三阱为n型阱。

3.如权利要求1所述的存储器装置,其特征在于,还包括:

第四阱,位于所述第一阱的下方,具有相异于所述第一阱的掺杂类型。

4.如权利要求1所述的存储器装置,其特征在于,所述浮动栅极层及所述第三阱的所述第一部分有第一重迭面积;所述浮动栅极层及所述第三阱的所述第二部分有第二重迭面积;且所述第一重迭面积小于所述第二重迭面积。

5.如权利要求1所述的存储器装置,其特征在于,还包括:

第一氧化层,位于所述第三阱的所述第一部分及所述浮动栅极层之间;及

第二氧化层,位于所述第三阱的所述第二部分及所述浮动栅极层之间。

6.如权利要求5所述的存储器装置,其特征在于,还包括:

源极线接点,设置于所述第一掺杂区及所述第三掺杂区之间的接触面上,用以接收源极线电压。

7.如权利要求6所述的存储器装置,其特征在于,还包括:

位线接点,设置于所述第二掺杂区上,用以接收位线电压。

8.如权利要求7所述的存储器装置,其特征在于,还包括:

第一阱接点,设置于所述第一阱以接收第一阱电压。

9.如权利要求8所述的存储器装置,其特征在于,还包括:

第二阱接点,设置于所述第二阱的所述第一部分以接收第二阱电压。

10.如权利要求1所述的存储器装置,其特征在于,所述第一掺杂区及所述第二掺杂区为p型掺杂区,且所述第三掺杂区为n型掺杂区。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于力旺电子股份有限公司,未经力旺电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110375096.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

同类专利
专利分类
×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top