[发明专利]多通道式离子源及其工作方法有效

专利信息
申请号: 202110352330.7 申请日: 2021-03-31
公开(公告)号: CN113223921B 公开(公告)日: 2023-03-14
发明(设计)人: 孙运;韩双来;刘立鹏;马乔;娄建秋;段炼;王海东 申请(专利权)人: 杭州谱育科技发展有限公司
主分类号: H01J49/14 分类号: H01J49/14;H01J49/04;H01J49/06;H01J49/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 311305 浙江省杭州市*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 通道 离子源 及其 工作 方法
【说明书】:

本发明提供了多通道式离子源及其工作方法,所述多通道式离子源包括电源;阳极内具有多个第一气体通道;阴极内具有多个贯穿的第二气体通道;所述阴极和阳极间具有第一间隙;第一密封件设置在所述阳极和阴极之间,使得所述第一间隙与外界隔离;引出电极具有多个贯穿的离子通道,所述离子通道与所述第二气体通道相对设置,所述离子通道的中心轴线穿过所述第二气体通道;所述引出电极和阴极间具有第二间隙;所述电源为所述阳极、阴极和引出电极提供电压;真空腔内设置多个离子传输单元,从所述离子通道出射的离子穿过离子传输单元;样气通道用于将样气送入所述真空腔内。本发明具有离子总量高等优点。

技术领域

本发明涉及离子源,特别涉及多通道式离子源及其工作方法。

背景技术

在以质子转移反应质谱为代表的化学电离质谱中,离子源主要实现两个功能:试剂离子的制备,以及离子分子反应的控制。理想的离子源,需要制备足够多的试剂离子以及更高的离子分子反应效率。试剂离子的产量越高,在离子分子反应区内能够与更多的待测样品分子反应高效反应,从而产生更多的产物离子,进而提高整机的灵敏度,并且试剂离子产量的最高值决定了线性范围的上限。

在质子转移反应质谱等化学电离质谱中,主要利用辉光放电源制备试剂离子,利用漂移管装置控制离子分子反应。使用这种形式的离子源主要有奥地利IONICON公司的质子转移反应质谱。在国内很多机构所发表的论文或专利中,也都报道过相类似的离子源。在上述提到的离子源中,辉光放电的内部为圆柱空心结构,漂移管为一组平行电极。在该结构中:1.等离子体在阴极的圆柱空心内部产生,电离区域有限;2.离子占据了轴心位置被引入到后级的离子分子反应室中,待测样品只能从非轴向位置引入,不利于离子分子反应室内的气体扩散。3.在漂移管结构中,只有轴向电场,径向没有电场,离子所受电场力单一,不利于离子分子的碰撞反应。

目前,主要有以下几种方式对上述问题进行改进:

1.改变放电形式,例如多针尖放电形式,或者利用磁场或射频电场加速等离子体的电子碰撞。以上都存在放电区稳定性不好的问题。并且引入电场或磁场不仅对电子有作用,对刚刚生成的离子也有影响,给离子的引出带来了难度。

2.利用多极杆结构替代漂移管结构,相比传统的漂移管结构,多极杆的使用,可以在径向方向增加射频场,不仅加大了离子分子碰撞反应的概率,也具有一定的聚焦效果。但单套多极杆,内部离子运动区有限。根据经典的多极场理论,如果增加内切圆半径(即反应区直径),极杆结构半径也须随之加大才能满足四极场条件。实际应用中,较大直径的极杆很难加工与装配。3.在反应室末端加入离子漏斗装置中,虽然离子漏斗的聚焦作用,可以提高进入后级质量分析器的离子密度,但没有改变试剂离子的产生和离子分子反应,提升作用有限。

因此,提供一种新型的离子源,其可以产生高浓度试剂离子以及高浓度产物离子,对于提高化学电离质谱的灵敏度等关键指标,极为重要。

发明内容

为解决上述现有技术方案中的不足,本发明提供了一种多通道式离子源。

多通道式离子源,所述多通道式离子源包括电源;所述多通道式离子源包括:

阳极和阴极,所述阳极内具有多个第一气体通道;所述阴极内具有多个贯穿的第二气体通道;所述阴极和阳极间具有第一间隙,所述第一气体通道和第二气体通道相对设置,所述第一气体通道的中心轴线穿过所述第二气体通道;

第一密封件,所述第一密封件设置在所述阳极和阴极之间,使得所述第一间隙与外界隔离;

引出电极,所述引出电极具有多个贯穿的离子通道,所述离子通道与所述第二气体通道相对设置,所述离子通道的中心轴线穿过所述第二气体通道;所述引出电极和阴极间具有第二间隙;所述电源为所述阳极、阴极和引出电极提供电压;

真空腔,所述真空腔内设置多个离子传输单元,从所述离子通道出射的离子穿过离子传输单元;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于杭州谱育科技发展有限公司,未经杭州谱育科技发展有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110352330.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top