[发明专利]蒸镀源及蒸镀装置有效
申请号: | 202110348544.7 | 申请日: | 2021-03-31 |
公开(公告)号: | CN113088892B | 公开(公告)日: | 2023-02-28 |
发明(设计)人: | 牛玉山 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
主分类号: | C23C14/26 | 分类号: | C23C14/26;C23C14/54 |
代理公司: | 北京市立方律师事务所 11330 | 代理人: | 张筱宁;宋海斌 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 蒸镀源 装置 | ||
本申请实施例提供了一种蒸镀源及蒸镀装置。该蒸镀源包括:蒸镀腔体,包括壳体和设于壳体内的蒸镀腔;加热组件,设于壳体的外围;反射组件,设于加热组件的外围,反射组件朝向壳体的一侧具有设计形状的表面,用于将加热组件的第一区域的部分热量反射到加热组件的第二区域对应的壳体的待加热区域,第一区域的温度高于第二区域的温度。本申请实施例可以将高温区域的部分热量反射到低温区域,提高镀膜的均一性,从而提高了产品的稳定性,进而提高工厂的产能。
技术领域
本申请涉及蒸镀技术领域,具体而言,本申请涉及一种蒸镀源及蒸镀装置。
背景技术
OLED(Organic Light-Emitting Diode,有机发光二极管)器件的制作主要为精细金属掩膜(FMM Mask)模式,是通过真空热蒸镀方式将OLED材料按照预定程序蒸镀到玻璃背板上,利用掩膜版上的图形,形成全彩器件。
在蒸镀过程中,为确保生产的稳定性,蒸镀膜层的均一性对产品的影响尤其重要。但是,现有的蒸镀源经常出现镀膜均一性较差的问题,导致工厂的产能严重浪费。
发明内容
本申请针对现有方式的缺点,提出一种蒸镀源及蒸镀装置,用以解决现有技术存在的镀膜均一性较差的技术问题。
第一方面,本申请实施例提供一种蒸镀源,包括:
蒸镀腔体,包括壳体和设于壳体内的蒸镀腔;
加热组件,设于壳体的外围;
反射组件,设于加热组件的外围,反射组件朝向壳体的一侧具有设计形状的表面,用于将加热组件的第一区域的部分热量反射到加热组件的第二区域对应的壳体的待加热区域,第一区域的温度高于第二区域的温度。
在一个可能的实现方式中,反射组件包括至少一个圆弧段或至少一个斜面段,设计形状的表面包括至少一个圆弧段或至少一个斜面段的表面。
在一个可能的实现方式中,设计形状的表面包括至少两个圆弧段依次连接形成的波浪形表面;或者,
设计形状的表面包括至少两个斜面段依次连接形成的波浪形表面。
在一个可能的实现方式中,反射组件沿平行于壳体的底面的横截面呈波浪状。
在一个可能的实现方式中,圆弧段的半径范围为10毫米-30毫米;或者,
斜面段与对应的加热组件之间的夹角范围为10°-60°。
在一个可能的实现方式中,壳体为方形壳体,蒸镀腔为方形空间。
在一个可能的实现方式中,反射组件包括至少一个第一反射板和至少一个第二反射板;
第一反射板和第二反射板相对设置,且均沿第一方向设置;第一方向为壳体的长度方向;
第一反射板和第二反射板朝向壳体的一侧均具有设计形状的表面。
在一个可能的实现方式中,壳体为矩形壳体;
反射组件的第一位置与加热组件在第二方向的间距为10毫米-20毫米;第一位置为反射组件与加热组件最靠近的位置,第二方向为壳体的宽度方向;和/或,
反射组件的第二位置与加热组件在第二方向的间距为30毫米-40毫米,第二位置为反射组件与加热组件最远离的位置。
在一个可能的实现方式中,反射组件包括反射板本体和反射层;
反射层设于反射板本体靠近加热组件的一侧;
反射层朝向壳体的一侧具有设计形状的表面。
第二方面,本申请实施例提供一种蒸镀装置,包括:如第一方面的蒸镀源。
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