[发明专利]蒸镀源及蒸镀装置有效

专利信息
申请号: 202110348544.7 申请日: 2021-03-31
公开(公告)号: CN113088892B 公开(公告)日: 2023-02-28
发明(设计)人: 牛玉山 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
主分类号: C23C14/26 分类号: C23C14/26;C23C14/54
代理公司: 北京市立方律师事务所 11330 代理人: 张筱宁;宋海斌
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 蒸镀源 装置
【权利要求书】:

1.一种蒸镀源,其特征在于,包括:

蒸镀腔体,包括壳体和设于所述壳体内的蒸镀腔;

加热组件,设于所述壳体的外围;

反射组件,设于所述加热组件的外围,所述反射组件朝向所述壳体的一侧具有设计形状的表面,用于将所述加热组件的第一区域的部分热量反射到所述加热组件的第二区域对应的所述壳体的待加热区域,所述第一区域的温度高于所述第二区域的温度;所述反射组件包括至少一个第一反射板和至少一个第二反射板;所述第一反射板和所述第二反射板沿所述壳体的高度方向分别设有一斜面段,或者所述第一反射板和所述第二反射板为两个倾斜设置的反射板。

2.根据权利要求1所述的蒸镀源,其特征在于,所述反射组件包括至少一个圆弧段或至少一个斜面段;所述设计形状的表面包括至少一个圆弧段或至少一个斜面段的表面。

3.根据权利要求2所述的蒸镀源,其特征在于,所述设计形状的表面包括至少两个圆弧段依次连接形成的波浪形表面;或者,所述设计形状的表面包括至少两个斜面段依次连接形成的波浪形表面。

4.根据权利要求1所述的蒸镀源,其特征在于,所述反射组件沿平行于所述壳体的底面的横截面呈波浪状。

5.根据权利要求2或3所述的蒸镀源,其特征在于,所述圆弧段的半径范围为10毫米-30毫米;或者,所述斜面段与对应的所述加热组件之间的夹角范围为10°-60°。

6.根据权利要求1所述的蒸镀源,其特征在于,所述壳体为方形壳体,所述蒸镀腔为方形空间。

7.根据权利要求6所述的蒸镀源,其特征在于,所述第一反射板和所述第二反射板相对设置,且均沿第一方向设置;所述第一方向为所述壳体的长度方向;所述第一反射板和所述第二反射板朝向所述壳体的一侧均具有所述设计形状的表面。

8.根据权利要求4所述的蒸镀源,其特征在于,所述壳体为方形壳体;所述反射组件的第一位置与所述加热组件在第二方向的间距为10毫米-20毫米;所述第一位置为所述反射组件与所述加热组件最靠近的位置,所述第二方向为所述壳体的宽度方向;和/或,所述反射组件的第二位置与所述加热组件在第二方向的间距为30毫米-40毫米,所述第二位置为所述反射组件与所述加热组件最远离的位置。

9.根据权利要求1所述的蒸镀源,其特征在于,所述反射组件包括反射板本体和反射层;所述反射层设于所述反射板本体靠近所述加热组件的一侧;所述反射层朝向所述壳体的一侧具有设计形状的表面。

10.一种蒸镀装置,其特征在于,包括:如权利要求1-9中任一项所述的蒸镀源。

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