[发明专利]光掩模上的EUV防护膜及其安装方法在审

专利信息
申请号: 202110338232.8 申请日: 2021-03-30
公开(公告)号: CN113515008A 公开(公告)日: 2021-10-19
发明(设计)人: 魏文耀;吕启纶;李信昌 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: G03F1/62 分类号: G03F1/62;G03F1/64
代理公司: 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 代理人: 杨佳婧
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 光掩模上 euv 防护 及其 安装 方法
【权利要求书】:

1.一种从光掩模拆卸防护膜的方法,包括:

将具有所述防护膜的所述光掩模放置在掩模支架上,其中,所述防护膜通过多个微结构附接于所述光掩模;

在施加拉力以将所述防护膜从所述光掩模分离之前或者在未施加拉力的情况下,通过向所述多个微结构施加力或能量来使所述多个微结构从所述光掩模脱离;以及

从所述光掩模拆卸所述防护膜。

2.根据权利要求1所述的方法,其中,所述多个微结构由弹性体制成。

3.根据权利要求2所述的方法,其中,所述多个微结构是多个微纤维。

4.根据权利要求2所述的方法,其中,施加力或能量包括施加推力以减小所述光掩模与所述防护膜之间的距离。

5.根据权利要求2所述的方法,其中:

所述微纤维由磁性弹性体制成,并且

施加力或能量包括施加磁场。

6.根据权利要求2所述的方法,其中,施加力或能量包括施加超声。

7.根据权利要求2所述的方法,其中:

所述多个微结构由形状记忆弹性体制成,

所述多个微结构是多个微锥体,每个微锥体具有顶部和设置在所述防护膜的表面上的底部,并且

施加力或能量包括施加热量。

8.根据权利要求2所述的方法,其中:

所述多个微结构由光响应性弹性体制成,

所述多个微结构是多个微锥体,每个微锥体具有底部和设置在所述防护膜的表面上的顶部,并且

施加力或能量包括施加光。

9.一种从光掩模安装防护膜的方法,包括:

将所述光掩模放置在掩模支架上;

将所述防护膜放置在防护膜支架上,其中,所述防护膜包括具有开口的框架,并且多个微结构被设置在所述框架的底部;

通过移动所述防护膜支架以使得所述多个微结构抵靠所述光掩模的表面,将所述多个微结构附接于所述光掩模;以及

移动所述防护膜支架以将具所述有防护膜的所述光掩模留在所述掩模支架上。

10.一种用于极紫外EUV光掩模的防护膜,所述防护膜包括:

EUV透明膜;

具有开口的框架;以及

多个微结构,所述多个微结构由粘附弹性体制成并且被设置在所述框架的底部上。

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