[发明专利]蚀刻液及其应用、陶瓷表面高结合强度金属层制备方法在审
申请号: | 202110337612.X | 申请日: | 2021-03-30 |
公开(公告)号: | CN113088289A | 公开(公告)日: | 2021-07-09 |
发明(设计)人: | 刘建国;项徽清 | 申请(专利权)人: | 华中科技大学 |
主分类号: | C09K13/10 | 分类号: | C09K13/10;C04B41/91;C04B41/88 |
代理公司: | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人: | 胡秋萍 |
地址: | 430074 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 蚀刻 及其 应用 陶瓷 表面 结合 强度 金属 制备 方法 | ||
1.一种蚀刻液,其特征在于,由以下重量百分比的原料组成:
浓硫酸92-98wt.%,冰晶石0.1-8wt.%,硼酸0.1-8wt.%,各组分含量之和为100%。
2.如权利要求1所述的蚀刻液,其特征在于,所述浓硫酸浓度为70%-98%。
3.一种蚀刻液的应用,其特征在于,如权利要求1或2所述的蚀刻液用于氧化铝陶瓷表面、氧化锆陶瓷表面或者氮化铝陶瓷表面的蚀刻过程中。
4.一种陶瓷表面高结合强度金属层制备方法,其特征在于,该方法包括:
S1.将陶瓷浸泡于加热后的蚀刻液,搅拌蚀刻液一段时间,得到经刻蚀后的均匀陶瓷表面结构;
S2.清洗均匀陶瓷表面结构,得到干净的陶瓷表面结构;
S3.对干净的陶瓷表面结构进行常规的化学镀铜、镀镍、镀金、镀锡、镀银、和/或镀钯操作,即可在陶瓷表面获得高结合强度的金属铜、镍、金、锡、银、和/或钯层;
所述蚀刻液为如权利要求1或2所述的蚀刻液,所述陶瓷表面为氧化铝陶瓷表面、氧化锆陶瓷表面或者氮化铝陶瓷表面。
5.如权利要求4所述的方法,其特征在于,步骤S1中,蚀刻温度为220℃-320℃。
6.如权利要求4所述的方法,其特征在于,步骤S1中,蚀刻时间为1min-20min。
7.如权利要求4所述的方法,其特征在于,步骤S1中,搅拌速度为50rpm-500rpm。
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