[发明专利]骤回静电放电(ESD)电路、ESD保护电路及其制造方法在审

专利信息
申请号: 202110336488.5 申请日: 2021-03-29
公开(公告)号: CN113178442A 公开(公告)日: 2021-07-27
发明(设计)人: 许嘉麟;叶昱宏;苏郁迪;林文杰 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L21/8249
代理公司: 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 代理人: 章社杲;李伟
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 静电 放电 esd 电路 保护 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种骤回静电放电(ESD)保护电路,包括:

第一阱,位于衬底中,所述第一阱具有第一掺杂剂类型;

晶体管的漏极区,所述漏极区在所述第一阱中,并且具有不同于所述第一掺杂剂类型的第二掺杂剂类型;

所述晶体管的源极区,所述源极区在所述第一阱中,具有所述第二掺杂剂类型,并且在第一方向上与所述漏极区分开;

所述晶体管的栅极区,所述栅极区在所述第一阱和所述衬底上方;以及

第二阱,嵌入在所述第一阱中,并且与所述漏极区的部分相邻,并且所述第二阱具有所述第二掺杂剂类型。

2.根据权利要求1所述的骤回ESD保护电路,还包括:

抽头阱,位于所述第一阱中并且具有所述第一掺杂剂类型。

3.根据权利要求2所述的骤回ESD保护电路,还包括:

输入/输出(IO)焊盘,耦接到所述漏极区;以及

参考电源电压端子,耦接到所述源极区和所述抽头阱。

4.根据权利要求3所述的骤回ESD保护电路,还包括:

寄生双极结型晶体管(BJT),位于所述第一阱中,所述寄生BJT具有基极、集电极和发射极,所述集电极通过所述漏极区耦接到所述IO焊盘,所述发射极耦接到所述源极区;以及

所述第一阱和所述衬底的寄生基极电阻,所述寄生基极电阻具有通过所述抽头阱耦接到所述参考电源电压端子的第一端、以及耦接到所述寄生BJT的所述基极的第二端,

其中,所述寄生BJT被配置为响应于所述寄生BJT的基极-发射极电压等于或大于从ESD电压施加到所述IO焊盘的阈值电压而导通,从而通过所述寄生BJT将所述ESD电压放电至所述参考电源电压端子。

5.根据权利要求3所述的骤回ESD保护电路,其中,

所述栅极区耦接到所述源极区、所述抽头阱和所述参考电源电压端子。

6.根据权利要求1所述的骤回ESD保护电路,其中

所述第一阱在所述第一方向上具有第一宽度,并且

所述第二阱在所述第一方向上具有第二宽度,所述第二宽度小于所述第一宽度。

7.根据权利要求6所述的骤回ESD保护电路,还包括:

第三阱,嵌入在所述第一阱中,所述第三阱具有所述第二掺杂剂类型,并且与所述源极区的部分相邻。

8.根据权利要求7所述的骤回ESD保护电路,其中,

所述第三阱在所述第一方向上具有第三宽度,所述第三宽度至少与所述第一宽度或所述第二宽度不同。

9.一种静电放电(ESD)保护电路,包括:

第一阱,位于衬底中,所述第一阱具有第一掺杂剂类型;

第一晶体管的漏极区,所述漏极区位于所述第一阱中,并且具有与所述第一掺杂剂类型不同的第二掺杂剂类型;

所述第一晶体管的源极区,所述源极区在所述第一阱中,具有所述第二掺杂剂类型,并且在第一方向上与所述漏极区分开;

所述第一晶体管的栅极区,所述栅极区在所述第一阱和所述衬底上方;

第二阱,嵌入在所述第一阱中,并且与所述源极区的部分相邻,并且所述第二阱具有所述第二掺杂剂类型;以及

抽头阱,位于所述第一阱中且具有所述第一掺杂剂类型,并且耦接到所述源极区。

10.一种制造骤回静电放电(ESD)保护电路的方法,所述方法包括:

在衬底中制造第一阱,所述第一阱在第一方向上延伸,并且具有第一掺杂剂类型;

在所述第一阱中制造晶体管的漏极区,所述漏极区在所述第一方向上延伸,并且具有不同于所述第一掺杂剂类型的第二掺杂剂类型;

在所述第一阱中制造所述晶体管的源极区,所述源极区在所述第一方向上延伸,具有所述第二掺杂剂类型,并且在不同于所述第一方向的第二方向上与所述漏极区分开;

在所述第一阱中制造第二阱,所述第二阱在所述第一方向上延伸,具有所述第二掺杂剂类型,并且与所述漏极区的部分相邻,以及

制造所述晶体管的栅极区,所述栅极区在所述漏极区和所述源极区之间,并且在所述第一阱和所述衬底上方。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司,未经台湾积体电路制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110336488.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top