[发明专利]一种微波等离子体去胶设备

权利要求书

1.一种微波等离子体去胶设备，包括微波装置、去胶装置、机架，进气法兰、抽气法兰、真空计，所述微波装置包括微波模块、微波屏蔽罩、石英腔，所述去胶装置包括主腔体、转接装置、高密金属网组合件、加热盘、腔门，腔门通过铰链与主腔体相连，主腔体固定在机架上，微波模块与微波屏蔽罩相连，石英腔位于微波屏蔽罩内，通过法兰固定在主腔体上表面，转接装置与石英腔通过法兰相连，进气法兰位于微波屏蔽罩上表面，抽气法兰位于主腔体下表面；

转接装置由固定筒、活动筒构成，活动筒与固定筒通过螺纹连接；

高密金属网组合件由环形压套和高密金属网构成；

安装套环固定在活动筒上，高密金属网组合件通过螺钉固定在安装套环上。

2.根据权利要求1所述的一种微波等离子体去胶设备，其特征是：固定筒的高度为主腔体上内表面与加热盘上表面距离的一半，活动筒的高度小于固定筒的高度。

3.根据权利要求1所述的一种微波等离子体去胶设备，其特征是：加热盘固定在主腔体底部，加热盘内部装有环形电阻丝，环形电阻丝位于腔室外部，外接电源工作。

4.根据权利要求1所述的一种微波等离子体去胶设备，其特征是：进气法兰和抽气法兰端口均安装有匀气盘。

5.根据权利要求4所述的一种微波等离子体去胶设备，其特征是：匀气盘为均匀分布着小孔的圆盘结构。

6.根据权利要求1所述的一种微波等离子体去胶设备，其特征是：微波模块包括微波电源、微波波导以及谐振腔，微波波导连接着微波电源和谐振腔，谐振腔包围着石英腔。