[发明专利]一种联苯修饰咔唑基团的蒽基深蓝光材料及其制备与应用有效
| 申请号： | 202110329761.1 | 申请日： | 2021-03-26 |
| 公开（公告）号： | CN113105382B | 公开（公告）日： | 2023-03-21 |
| 发明（设计）人： | 朱旭辉;王梅;彭俊彪;曹镛 | 申请（专利权）人： | 华南理工大学 |
| 主分类号： | C07D209/86 | 分类号： | C07D209/86;C09K11/06;H10K85/60;H10K50/11 |
| 代理公司： | 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 | 代理人： | 陈智英 |
| 地址： | 510640 广*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 联苯 修饰 基团 深蓝 材料 及其 制备 应用 | ||
【权利要求书】：
1.一种联苯修饰咔唑基团的蒽基深蓝光材料，其特征在于：为以下化学结构中一种以上：
2.根据权利要求1所述联苯修饰咔唑基团的蒽基深蓝光材料在电致发光器件中的应用。
3.据权利要求2所述的应用，其特征在于：所述联苯修饰咔唑基团的蒽基深蓝光材料在蒸镀型电致发光器件、溶液加工的电致发光器件和/或印刷型电致发光器件中的应用。
4.据权利要求3所述的应用，其特征在于：所述联苯修饰咔唑基团的蒽基深蓝光材料在电致发光器件中作为发光层的主体材料。
5.根据权利要求1所述联苯修饰咔唑基团的蒽基深蓝光材料在制备发光材料中的应用。
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