[发明专利]一种掩模图案校正方法、存储介质以及设备

权利要求书

1.一种掩模图案校正方法，其特征在于，所述掩模图案至少包括第一图案、第二图案和第三图案，所述第三图案设置在所述第一图案和所述第二图案之间，在靠近所述第三图案的一侧，所述第一图案的轮廓包括第一斜线线段、分别和所述第一斜线线段的两端连接的第一直线线段和第二直线线段，所述第一直线线段和所述第二直线线段平行；所述第二图案的轮廓包括第二斜线线段、分别和所述第二斜线线段的两端连接的第三直线线段和第四直线线段，所述第三直线线段和所述第四直线线段平行，所述校正方法包括：

通过调整所述第一斜线线段与所述第一直线线段的第一夹角以及所述第二斜线线段与所述第三直线线段的第二夹角实现对所述掩模图案的校正。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，调整所述第一斜线线段与所述第一直线线段的第一夹角以及所述第二斜线线段与所述第三直线线段的第二夹角实现对所述掩模图案的校正，包括：

增大所述第一夹角以及所述第二夹角，以将所述第一斜线线段与所述第一直线线段的所述第一夹角调整至第三夹角以及将所述第二斜线线段与所述第三直线线段的所述第二夹角调整至第四夹角实现对所述掩模图案的校正。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述第一图案和所述第二图案沿所述第三图案的中心轴方向对称设置，所述第三图案的中心轴与所述第一直线线段平行；

增大所述第一夹角以及所述第二夹角，以将所述第一斜线线段与所述第一直线线段的所述第一夹角调整至第三夹角以及将所述第二斜线线段与所述第三直线线段的所述第二夹角调整至第四夹角实现对所述掩模图案的校正，包括：

增大所述第一夹角以及所述第二夹角，以将所述第一斜线线段与所述第一直线线段的所述第一夹角调整至第三夹角以及将所述第二斜线线段与所述第三直线线段的所述第二夹角调整至第四夹角，所述第三夹角和所述第四夹角相等。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在远离所述第三图案的一侧，所述第一图案的轮廓包括第一弯折线段，所述第一弯折线段与由所述第一直线线段、所述第一斜线线段和所述第二直线线段依次连接形成的第二弯折线段平行；所述第二图案的轮廓包括第三弯折线段，所述第三弯折线段与由所述第三直线线段、所述第二斜线线段和所述第四直线线段依次连接形成的第四弯折线段平行；

调整所述第一斜线线段与所述第一直线线段的第一夹角以及所述第二斜线线段与所述第三直线线段的第二夹角之后，所述方法还包括：

通过对比调整前后的所述第一图案得到第一辅助图案，将所述第一辅助图案拼接到所述第一弯折线段形成第五弯折线段；以及，通过对比调整前后的所述第二图案得到第二辅助图案，将所述第二辅助图案拼接到所述第三弯折线段形成第六弯折线段。

5.一种掩模图案校正方法，其特征在于，所述掩模图案至少包括第一图案、第二图案和第三图案，所述第三图案设置在所述第一图案和所述第二图案之间，在靠近所述第三图案的一侧，所述第一图案的轮廓包括第一斜线线段、分别和所述第一斜线线段的两端连接的第一直线线段和第二直线线段，所述第一直线线段和所述第二直线线段平行；所述第二图案的轮廓包括第二斜线线段、分别和所述第二斜线线段的两端连接的第三直线线段和第四直线线段，所述第三直线线段和所述第四直线线段平行，所述校正方法包括：

通过调整所述第一斜线线段与所述第一直线线段的交点至所述第三图案的第一距离以及所述第二斜线线段与所述第三直线线段的交点至所述第三图案的第二距离实现对所述掩模图案的校正。

6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，调整所述第一斜线线段与所述第一直线线段的交点至所述第三图案的第一距离以及所述第二斜线线段与所述第三直线线段的交点至所述第三图案的第二距离实现对所述掩模图案的校正，包括：

增大所述第一距离，以将所述第一斜线线段与所述第一直线线段的交点至所述第三图案的所述第一距离调整至第三距离，所述第三距离至少为所述第一距离的两倍；以及，

增大所述第二距离，以将所述第二斜线线段与所述第三直线线段的交点至所述第三图案的所述第二距离调整至第四距离，所述第四距离至少为所述第二距离的两倍。