[发明专利]一种尺寸可控复合框架平面材料及其制备方法与在细胞富集中的应用

权利要求书

1.尺寸可控复合框架平面材料，其特征在于，所述复合框架平面材料由网状纳米纤维膜、支撑柱和基底组成，所述基底的一个表面上有纳米阵列结构的支撑柱，网状纳米纤维膜铺设在纳米阵列结构的支撑柱上；所述支撑柱为硅纳米阵列；所述支撑柱的高度为1000~10000nm；所述支撑柱的直径为50~300nm；

所述网状纳米纤维膜为丝素/聚乳酸聚己内酯纤维网；浓度为4%~16%（w/v）；所述网状纳米纤维膜中纤维的直径为50~500nm。

2.根据权利要求1所述的复合框架平面材料，其特征在于，所述基底为平面材料，其面积大小为1~100cm²。

3.根据权利要求1所述的复合框架平面材料，其特征在于，所述基底的材质包括铁板、塑料板、铜板、纸板、陶瓷板、玻璃或硅片。

4.一种权利要求1〜3中任一项所述的复合框架平面材料的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

（1）采用电化学沉积合成法、水热/溶剂热合成法、模板合成法、CVD合成法中的一种制备具有纳米阵列结构的支撑柱，并将支撑柱接到基底的一个表面上；或直接在基底的一个表面上采用金属辅助刻蚀法、磁控溅射法，制备具有纳米阵列结构的支撑柱；

（2）配置纺丝液，置于静电纺丝设备中，将基底材料的具有支撑柱的一面向上，放于静电纺丝仪的接收器上；纺丝液通过静电纺丝设备喷出纳米纤维，在纳米阵列结构的支撑柱表面形成网状结构的纳米纤维膜，得到复合框架平面材料。

5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，步骤（1）所述金属辅助刻蚀法为将基底依次放入腐蚀液、掩膜液和刻蚀液中处理，得到一个表面具有纳米阵列结构的支撑柱的基底材料；所述腐蚀液包括氢氟酸，所述腐蚀液的浓度为0.1~1.0%（v/v）；所述掩膜液包括硝酸银与氢氟酸的混合液，硝酸银浓度为0.001~0.010%（w/v），氢氟酸浓度为1~10%（v/v）；所述刻蚀液包括双氧水与氢氟酸的混合液，双氧水浓度为0.1~1.0%（v/v），氢氟酸浓度为1~10%（v/v）。

6.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，基底在掩膜液和刻蚀液中处理后，用去离子水清洗、晾干。

7.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，步骤（2）所述纺丝液包括丝素蛋白、聚乳酸聚己内酯、聚氨酯、腈纶、聚乙烯醇中的一种或两种混合溶液；当纺丝液为两种溶液时，两种溶液的质量比为1:10~10:1，所述纺丝液的浓度为4%~16%（w/v），所述纺丝液的溶剂包括六氟异丙醇、三氟乙酸或甲酸。

8.一种权利要求1~3中任一项所述的复合框架平面材料在细胞富集中的应用。