[发明专利]一种适用于高功率束流的薄膜降能器

权利要求书

1.一种适用于高功率束流的薄膜降能器，其特征在于：包括真空管(1)，位于所述真空管(1)内部、且内部中空的铜基座(2)，环绕安装在所述铜基座(2)内部的冷却水装置(3)，设置在铜基座(2)内部的薄膜(4)，和设置在所述真空管(1)管壁上、支撑固定所述铜基座(2)的支撑底座(5)，所述铜基座(2)与所述真空管(1)同轴设置。

2.根据权利要求1所述的一种适用于高功率束流的薄膜降能器，其特征在于：所述冷却水装置(3)包括环绕在所述铜基座(2)壁内部的环绕水管(6)、和与所述环绕水管(6)连通的进水管(7)和出水管(8)，所述进水管(7)和出水管(8)另一端穿过所述支撑底座(5)延伸至所述真空管(1)外。

3.根据权利要求1所述的一种适用于高功率束流的薄膜降能器，其特征在于：所述铜基座(2)中空的部分为“T”形中空结构(9)，所述“T”形中空结构(9)包括上中空结构和下中空结构，所述薄膜(4)设置在上中空结构中。

4.根据权利要求3所述的一种适用于高功率束流的薄膜降能器，其特征在于：所述薄膜(4)通过螺套压盖(10)固定安装在所述铜基座(2)内部。

5.根据权利要求4所述的一种适用于高功率束流的薄膜(4)降能器，其特征在于：所述螺套压盖(10)包括同轴连接的上盖(11)和下盖(12)、以及贯穿所述上盖(11)和下盖(12)中心的通孔(13)。

6.根据权利要求5所述的一种适用于高功率束流的薄膜降能器，其特征在于：所述上盖(11)半径大于上中空结构的半径，所述下盖(12)半径与上中空结构的半径相同，所述通孔(13)半径与下中空结构半径相同。

7.根据权利要求3所述的一种适用于高功率束流的薄膜降能器，其特征在于：所述螺套压盖(10)与所述薄膜(4)之间设置有垫片，所述垫片为环形结构，且其内半径小于或等于下中空结构半径。

8.根据权利要求3所述的一种适用于高功率束流的薄膜降能器，其特征在于：所述薄膜(4)为金刚石薄膜。

9.根据权利要求1所述的一种适用于高功率束流的薄膜降能器，其特征在于：所述支撑底座(5)由铜或铜合金制成。

10.根据权利要求1所述的一种适用于高功率束流的薄膜降能器，其特征在于：所述真空管(1)两端连接有法兰(14)。