[发明专利]清洗喷嘴和清洗方法

说明书

本发明提供清洗喷嘴和清洗方法，抑制已吹走的灰尘再次附着于被清洗面。清洗喷嘴将保持被加工物的保持面或保持面上所保持的被加工物的表面中的任意面作为被清洗面进行清洗，其中，该清洗喷嘴具有：空气喷嘴，其在与被清洗面平行的方向上延伸，具有朝向被清洗面喷射空气的喷射口；以及吸气嘴，其与空气喷嘴相邻而与空气喷嘴并列地配置，具有对被清洗面上的空气进行吸引的吸气口。

技术领域

本发明涉及清洗喷嘴和清洗方法。

背景技术

在专利文献1～3所公开的技术中，通过向保持晶片的保持面喷射空气而以干式清洗该保持面。

例如，在将带粘贴在晶片的一个面上的覆膜机中，通过保持面对晶片的另一个面进行保持。在该覆膜机中，当在保持面上附着有灰尘时，在将带粘贴在保持面所保持的晶片的一个面(上表面)上时，由于保持面上的灰尘而在晶片上产生从保持面浮起的部分。因此，在该部分，带被强力按压，带的糊层被压扁。其结果是，粘贴在晶片上的带的厚度不均匀。而且，在后面的加工工序中，难以将晶片加工到规定的深度。

因此，以往，在覆膜机中，通过喷射空气来对保持晶片的另一个面的保持面以干式进行清洗。

专利文献1：日本特开2016-198874号公报

专利文献2：日本特开2016-039286号公报

专利文献3：日本特开2012-049359号公报

但是，当如上所述利用空气吹走保持面上的灰尘时，有时灰尘会再次附着于保持面。

发明内容

因此，本发明的目的在于，在以干式清洗保持面等被清洗面时，抑制已吹走的灰尘再次附着于被清洗面。

根据本发明的一个方面，提供清洗喷嘴，其将保持被加工物的保持面或该保持面上所保持的被加工物的表面中的任意面作为被清洗面进行清洗，其中，该清洗喷嘴具有：空气喷嘴，其在与该被清洗面平行的方向上延伸，具有朝向该被清洗面喷射空气的喷射口；以及吸气嘴，其与该空气喷嘴相邻而与该空气喷嘴并列地配置，具有对该被清洗面上的空气进行吸引的吸气口。

优选该空气喷嘴构成为从该喷射口喷射离子化的空气。

另外，根据本发明的另一个方面，提供一种清洗方法，使用清洗喷嘴将保持被加工物的保持面或该保持面上所保持的被加工物的表面中的任意面作为被清洗面进行清洗，其中，该清洗喷嘴具有：空气喷嘴，其在与该被清洗面平行的方向上延伸，具有朝向该被清洗面喷射空气的喷射口；以及吸气嘴，其与该空气喷嘴相邻而与该空气喷嘴并列地配置，具有对该被清洗面上的空气进行吸引的吸气口，该清洗方法包含：配置工序，在该被清洗面的上方空出间隙地与该被清洗面平行地配置该清洗喷嘴；以及清洗工序，一边使通过该配置工序而配置的该清洗喷嘴和该被清洗面相对地在与该被清洗面平行的方向上并且在与该清洗喷嘴的延伸方向交叉的方向上移动，一边从该喷射口喷射空气并且通过该吸气口将在该被清洗面上发生了反射的空气吸入，从而对该被清洗面进行清洗。

优选该空气喷嘴从该喷射口喷射离子化的空气。另外，优选在该清洗工序中，在该被清洗面相对于该清洗喷嘴的移动方向上，该吸气嘴的该吸气口配置于比该空气喷嘴的该喷射口靠上游侧的位置上。

在本发明的一个方面所涉及的清洗喷嘴以及另一个方面所涉及的清洗方法中，从在与被清洗面平行的方向上延伸的空气喷嘴的喷射口喷射空气，并且从与空气喷嘴相邻而与空气喷嘴并列地配置的吸气嘴的吸气口吸引被清洗面上的空气即在被清洗面上发生了反射的空气。由此，能够利用与喷射口相邻地配置的吸气口立即吸引被从喷射口喷射的空气吹起的灰尘。因此，能够良好地抑制灰尘再次附着于被清洗面。

附图说明

图1是示出清洗喷嘴的结构的立体图。

图2示出清洗喷嘴的结构的剖视图。

图3是示出清洗喷嘴的清洗动作的剖视图。