[发明专利]COA型阵列基板及其测量方法、液晶显示面板有效

专利信息
申请号: 202110306326.7 申请日: 2021-03-23
公开(公告)号: CN113031359B 公开(公告)日: 2022-08-23
发明(设计)人: 彭备;余思慧 申请(专利权)人: 滁州惠科光电科技有限公司;惠科股份有限公司
主分类号: G02F1/1362 分类号: G02F1/1362;G02F1/13
代理公司: 深圳中一专利商标事务所 44237 代理人: 刘兰菊
地址: 239000 安徽省滁*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: coa 阵列 及其 测量方法 液晶显示 面板
【权利要求书】:

1.一种COA型阵列基板,其特征在于,包括衬底基板,所述COA型阵列基板还包括:显示区和环绕所述显示区的周边区,所述周边区包括多个测量区;

在所述衬底基板上,每个测量区包括阵列排布的多个辅助测量图案层,每个辅助测量图案层的中部开设有辅助测量通孔;

沿所述衬底基板的厚度方向,在所述辅助测量图案层远离所述衬底基板的一侧,所述测量区还设置有多个色阻单元;

其中,在所述衬底基板所在的平面上,所述色阻单元的投影中心与对应的所述辅助测量图案层的投影中心、所述辅助测量图案层中的所述辅助测量通孔的投影中心均重合,且所述色阻单元的投影尺寸大于所述辅助测量通孔的投影尺寸。

2.根据权利要求1所述的COA型阵列基板,其特征在于,

在位于奇数列或偶数列的所述辅助测量图案层远离所述衬底基板的一侧,设置有所述色阻单元;或者,

在位于奇数行或偶数行的所述辅助测量图案层远离所述衬底基板的一侧,设置有所述色阻单元;或者,

在位于奇数行奇数列和偶数行偶数列的所述辅助测量图案层远离所述衬底基板的一侧,设置有所述色阻单元;或者,

在位于奇数行偶数列和偶数行奇数列的所述辅助测量图案层远离所述衬底基板的一侧,设置有所述色阻单元。

3.根据权利要求2所述的COA型阵列基板,其特征在于,所述辅助测量图案层包括第一辅助测量图案层和第二辅助测量图案层;

所述第一辅助测量图案层为在远离所述衬底基板的一侧设置有色阻单元的所述辅助测量图案层,所述第二辅助测量图案层为在远离所述衬底基板的一侧未设置色阻单元的所述辅助测量图案层;

沿行方向,所述第一辅助测量图案层的长度大于或者等于所述第二辅助测量图案层的长度,所述第一辅助测量图案层的长度大于或者等于所述色阻单元的长度;沿列方向,所述第一辅助测量图案层的长度大于或者等于所述色阻单元的长度。

4.根据权利要求1或2所述的COA型阵列基板,其特征在于,每个色阻单元上还设置有结构相同的两个对位通孔;

所述两个对位通孔位于所述色阻单元与对应的所述辅助测量图案层的重叠区域,且所述两个对位通孔分设于所述色阻单元的相对两侧。

5.根据权利要求4所述的COA型阵列基板,其特征在于,所述两个对位通孔分别对应的中线与所述色阻单元的中线均重合。

6.根据权利要求1所述的COA型阵列基板,其特征在于,所述显示区包括多个阵列排布的子像素区;

在所述衬底基板所在的平面上,所述辅助测量通孔的投影尺寸小于或者等于所述子像素区的投影尺寸。

7.一种COA型阵列基板的测量方法,其特征在于,应用于测量设备,所述方法包括:

在如权利要求1-6任一项所述的COA型阵列基板的测量区中,确定辅助测量通孔的位置;

根据所述辅助测量通孔的位置,针对所述辅助测量通孔的每条边沿,确定与所述边沿平行且距离最近的目标边沿,并将所述目标边沿作为对应的色阻单元的边沿;

根据所述色阻单元的边沿,确定所述色阻单元沿行方向的长度和沿列方向的长度。

8.根据权利要求7所述的测量方法,其特征在于,所述方法还包括:

根据所述辅助测量通孔的位置,确定所述色阻单元上的对位通孔沿行方向的尺寸和沿列方向的尺寸。

9.一种计算机可读存储介质,所述计算机可读存储介质存储有计算机程序,其特征在于,所述计算机程序被处理器执行时实现如权利要求7-8任一项所述的COA型阵列基板的测量方法。

10.一种液晶显示面板,其特征在于,包括如权利要求1-6任一项所述的COA型阵列基板和对置基板、以及设置于所述COA型阵列基板和所述对置基板之间的液晶层。

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