[发明专利]一种应用于小尺寸样品光刻工艺的方法

权利要求书

1.一种应用于小尺寸样品光刻工艺的方法，其特征在于，包括：

将待光刻的小尺寸样品放置在冷压法所用设备的压片模具上；

将压片用粉末材料填充到放置有所述小尺寸样品的所述压片模具中；

对所述压片模具施加压力，将所述小尺寸样品嵌入到压制所述压片用粉末材料得到的压片中，以得到压片产品；

在所述压片模具与所述小尺寸样品之间放置用于保护样品表面的膜层，其中，所述小尺寸样品的光刻面与所述膜层相接触；

所述膜层包括晶圆保护蓝膜；

所述压片用粉末材料包括聚四氟乙烯；

对所述压片模具施加的压力范围在2-10MPa之间，对所述压片模具施加压力的时长范围在2-10min之间；

其中，所述压片产品中的所述小尺寸样品的其中一个表面与所述压制所述压片用粉末材料得到的压片表面平齐。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，还包括：

在将待光刻的小尺寸样品放置在冷压法所用设备的压片模具上之前，对所述小尺寸样品进行清洗，并分别用丙酮和无水乙醇对所述压片模具超声清洗预设时长，再用去离子水冲洗干净所述压片模具，利用氮气吹干所述压片模具。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述冷压法所用设备包括粉末压片机。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，还包括：

对所述压片产品进行匀胶操作。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，还包括：

在对所述压片产品进行匀胶操作之前，对所述压片产品进行等离子体清洗和喷涂增粘剂。