[发明专利]触控感应器及其制造方法

权利要求书

1.一种触控感应器，其特征在于，具有一可视区及设置于该可视区的至少一侧的一周边区，该触控感应器包括：

一基板；

一金属纳米线层，设置于该基板上，并且具有对应位于该可视区的一第一部分以及对应位于该周边区的一第二部分；以及

一金属层，设置于该基板上，且对应位于该周边区，其中部分的该金属层叠设并接触该金属纳米线层至少部分的该第二部分以形成一搭接区域，其中该搭接区域的一搭接面积介于0.09mm²至1.20mm²之间，且该搭接区域的一搭接阻抗小于50Ω。

2.如权利要求1所述的触控感应器，其特征在于，该搭接面积是该搭接区域于该基板的一垂直投影面积。

3.如权利要求1所述的触控感应器，其特征在于，该搭接面积介于0.09mm²至0.60mm²之间。

4.如权利要求1所述的触控感应器，其特征在于，该搭接阻抗小于40Ω、小于30Ω、小于20Ω或小于10Ω。

5.如权利要求1所述的触控感应器，其特征在于，该金属纳米线层包括：

一基质、多个第一金属纳米线及多个第二金属纳米线，其中每一该些第一金属纳米线完全位于该基质中，且每一该些第二金属纳米线仅部分嵌入至该基质中。

6.如权利要求5所述的触控感应器，其特征在于，该金属纳米线层的该第二部分中的每一该些第二金属纳米线具有嵌入至该基质中的一第一部分以及凸出于该基质的一上表面的一第二部分，且该些第二金属纳米线的该些第二部分嵌入至该金属层中。

7.如权利要求5所述的触控感应器，其特征在于，每一该些第二金属纳米线具有嵌入至该基质中的一第一部分以及凸出于该基质的一上表面的一第二部分。

8.如权利要求7所述的触控感应器，其特征在于，该金属纳米线层还包括：

多个第一膜结构，其中每一该些第一膜结构位于每一该些第一金属纳米线与该基质的一界面；以及

多个第二膜结构，其中每一该些第二膜结构位于每一该些第二金属纳米线的该第一部分与该基质的一界面。

9.如权利要求8所述的触控感应器，其特征在于，每一该些第一膜结构包覆每一该些第一金属纳米线，以形成一第一披覆结构，且每一该些第二膜结构包覆每一该些第二金属纳米线的该第一部分，以形成一第二披覆结构。

10.如权利要求8所述的触控感应器，其特征在于，该些第一膜结构以及该些第二膜结构的材料包括聚乙烯衍生物。

11.如权利要求1所述的触控感应器，其特征在于，该金属层的材料包括感光银。

12.如权利要求1所述的触控感应器，其特征在于，该金属纳米线层的该第一部分构成一触控感应电极，且部分的该金属层构成一周边线路。

13.一种触控感应器的制造方法，其特征在于，该触控感应器具有一可视区以及设置于该可视区的至少一侧的一周边区，该触控感应器的制造方法包括：

提供一基板；

形成一金属纳米线层于该基板，并对应位于该可视区及该周边区；

对该金属纳米线层进行表面处理；以及

形成一金属层于该基板，且对应位于该周边区，其中部分的该金属层叠设并接触经表面处理后的该金属纳米线层以形成一搭接区域，其中该搭接区域的一搭接面积介于0.09mm²至1.20mm²之间，且该搭接区域的一搭接阻抗小于50Ω。