[发明专利]一种光学镀膜用高纯度二氧化硅及其制备工艺

权利要求书

1.一种光学镀膜用高纯度二氧化硅的制备工艺，其特征在于：包括以下步骤：

S1：水热处理：取质量配比的水玻璃与表面活性剂混合置于反应釜内，然后加入溶剂，溶剂采用质量浓度为30-45 %的乙醇水溶液，搅拌均匀后加入质量配比的醋酸铵溶液，再加入醋酸溶液调节pH至4-5，先进行老化处理，老化温度为30-80 ℃，老化时间为5-8 h，然后进行水热处理，水热温度设为100-120 ℃，反应时间为8-12 h；

S2：清洗：将步骤1所得产物离心后采用去离子水进行多次洗涤至中性并将水分烘干；

S3：煅烧：将清洗后的产物采用酸液浸渍4-5 h，酸液采用盐酸溶液，然后将浸渍后的产物置于煅烧炉内进行煅烧，煅烧炉内首先采用5℃/min的升温速率升至200 ℃，再采用10℃/min的升温速率升至450-500 ℃下进行煅烧，煅烧4-6 h，制得高纯度二氧化硅。

2.根据权利要求1所述的一种光学镀膜用高纯度二氧化硅的制备工艺，其特征在于：所述步骤1中的表面活性剂采用十六烷基三甲基溴化铵。

3.根据权利要求1所述的一种光学镀膜用高纯度二氧化硅的制备工艺，其特征在于：所述步骤1中原料的质量配比为水玻璃50-60份、表面活性剂25-30份、溶剂100-150 份及醋酸铵5-10份。

4.根据权利要求1所述的一种光学镀膜用高纯度二氧化硅的制备工艺，其特征在于：所述醋酸的质量浓度为1-2 mol/L。

5.根据权利要求4所述的一种光学镀膜用高纯度二氧化硅的制备工艺，其特征在于：所述醋酸铵的质量浓度为0.5-1 mol/L。

6.根据权利要求1所述的一种光学镀膜用高纯度二氧化硅的制备工艺，其特征在于：所述盐酸溶液的质量浓度为5-10 %。

7.一种光学镀膜用高纯度二氧化硅，采用如权利要求1-6任一项所述的制备工艺制备而成。