[发明专利]包含高溶解性光致酸产生剂的牙科用光固化性组合物在审
| 申请号： | 202110276469.8 | 申请日： | 2021-03-15 |
| 公开（公告）号： | CN113402665A | 公开（公告）日： | 2021-09-17 |
| 发明（设计）人： | 山本健蔵;原大辅;宫田俊介 | 申请（专利权）人： | 株式会社松风 |
| 主分类号： | C08F222/20 | 分类号： | C08F222/20;C08F222/14;C08F220/36;C08F220/20;C08F230/02;C08F2/50;C08K9/06;C08K3/34;A61K6/887;A61K6/15;A61K6/30;A61K6/60 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 陈曦;向勇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 包含 溶解性 光致酸 产生 牙科 用光 固化 组合 | ||
1.一种牙科用光固化性组合物，其中，
其包含(A)聚合性单体、(B)光敏剂、(C)光致酸产生剂以及(D)光聚合促进剂，
并且，(C)光致酸产生剂包含(C-1)与logS为-4以下的阴离子形成的碘鎓盐系化合物。
2.如权利要求1所述的牙科用光固化性组合物，其中，
相对于(A)聚合性单体100质量份，包含0.5质量份以上的(C-1)与logS为-4以下的阴离子形成的碘鎓盐系化合物。
3.如权利要求1或2所述的牙科用光固化性组合物，其中，
作为(C-1)与logS为-4以下的阴离子形成的碘鎓盐系化合物，包含由具有有机基团以及P、B、Al、S、Ga中的任意一个以上的原子的阴离子和芳基碘鎓阳离子构成的芳基碘鎓盐。
4.如权利要求1或2所述的牙科用光固化性组合物，其中，
作为(C-1)与logS为-4以下的阴离子形成的碘鎓盐系化合物，包含由具有至少1个以上的H被F取代的有机基团以及P、B、Al、S、Ga中的任意一个以上的原子的阴离子和芳基碘鎓阳离子构成的芳基碘鎓盐。
5.如权利要求1～4中任一项所述的牙科用光固化性组合物，其中，
作为(D)光聚合促进剂包含脂肪族叔胺化合物。
6.如权利要求1～4中任一项所述的牙科用光固化性组合物，其中，
作为(D)光聚合促进剂包含(D-1)不具有2个以上的伯羟基的脂肪族叔胺化合物。
7.如权利要求1～6中任一项所述的牙科用光固化性组合物，其中，
其是单剂型的牙科用光固化性组合物，
相对于(A)聚合性单体100质量份，包含0.005～1.0质量份的(B)光敏剂、0.5～10.0质量份的(C)光致酸产生剂、以及0.01～20质量份的(D)光聚合促进剂。
8.如权利要求1～6中任一项所述的牙科用光固化性组合物，其中，
其是双剂型的牙科用光固化性组合物，
由第一膏和第二膏组成，
第一膏与第二膏的比重为1：0.8～1.2，
相对于第一膏和第二膏中包含的(A)聚合性单体的合计200质量份，包含0.01～2.0质量份的(B)光敏剂、1.0～20质量份的(C)光致酸产生剂、以及0.02～40质量份的(D)光聚合促进剂。
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