[发明专利]一种磁控溅射真空镀膜设备在审
申请号: | 202110272046.9 | 申请日: | 2021-03-12 |
公开(公告)号: | CN113046713A | 公开(公告)日: | 2021-06-29 |
发明(设计)人: | 郭江涛;文继志 | 申请(专利权)人: | 斡兹真空科技(嘉兴)有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/54 |
代理公司: | 嘉兴启帆专利代理事务所(普通合伙) 33253 | 代理人: | 廖银洪 |
地址: | 314006 浙江省嘉兴市南*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 磁控溅射 真空镀膜 设备 | ||
本发明公开了一种磁控溅射真空镀膜设备,包括设备本体,所述设备本体顶部固定安装有固定柱,所述固定柱上端固定安装有罩板,所述罩板下端固定安装有动力装置,所述设备本体底部固定安装有受力板。本发明,通过设置喷洒装置可以在设备出现故障起火时,及时喷洒干粉降温灭火,控制火情蔓延,及时控制火灾,减少设备损害程度,保障了财产安全和生命安全,通过设置动力装置,可以使喷洒装置往复运动,增加了干粉喷洒的面积,更有效的给起火设备灭火,提高了灭火效率,减缓了火灾蔓延速度。
技术领域
本发明涉及镀膜技术领域,尤其涉及一种磁控溅射真空镀膜设备。
背景技术
磁控溅射的工作原理是指电子在电场E的作用下,在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞,使其电离产生出Ar正离子和新的电子;新电子飞向基片,Ar离子在电场作用下加速飞向阴极靶,并以高能量轰击靶表面,使靶材发生溅射。在溅射粒子中,中性的靶原子或分子沉积在基片上形成薄膜。
根据专利号CN208667836U,名为一种卷绕式双面磁控溅射真空镀膜设备,其包括真空腔体以及设置在所述真空腔体内放卷机构、收卷机构、冷却主鼓、放卷摆架和收卷摆架;该设备卷料经放卷机构、放卷摆架后通过其中一个冷却主鼓实现一面的镀膜,再经另外一个冷却主鼓实现另外一面的镀膜,之后经收卷摆架和收卷机构进行收卷,实现一次性在薄膜两面同时镀上镀层。
但是该设备没有配备消防装置,不能在设备故障起火的时候及时进行灭火,导致设备容易严重受损,甚至出现不可,控制的火灾或爆炸,造成十分危险的处境,给人们造成严重的生命财产损失。
发明内容
本发明的目的是为了解决现有技术中存在的缺点,而提出的一种磁控溅射真空镀膜设备。
为了实现上述目的,本发明采用了如下技术方案:一种磁控溅射真空镀膜设备,包括设备本体,所述设备本体顶部固定安装有固定柱,所述固定柱上端固定安装有罩板,所述罩板下端固定安装有动力装置,所述设备本体底部固定安装有受力板。
作为上述技术方案的进一步描述:
:所述动力装置包括动力箱,所述动力箱内侧壁固定安装有一号连接板,所述一号连接板侧壁固定安装有电机,所述电机输出端固定套设有不规则圆盘,所述动力箱外侧壁固定安装有二号连接板,所述二号连接板底部开设有滑槽,所述动力箱侧壁活动贯穿有活动组件。
作为上述技术方案的进一步描述:
所述活动组件包括活动杆,所述活动杆外表面活动套设有二号弹簧,所述活动杆靠近不规则圆盘的一端固定安装有挡板,所述活动杆远离不规则圆盘的一端固定连接有喷洒装置,所述二号弹簧的两端分别固定连接在挡板的侧壁与动力箱的内侧壁上,所述动力箱内侧壁固定安装有两个限位块,两个所述限位块分别位于动力箱相对的一侧。
作为上述技术方案的进一步描述:
所述喷洒装置包括干粉箱,所述干粉箱上端固定连接有二号连接杆,所述二号连接杆远离干粉箱的一端固定安装有T形杆,所述干粉箱侧壁固定安装有一号连接杆,所述干粉箱底部固定安装有喷洒组件。
作为上述技术方案的进一步描述:
所述喷洒组件包括导管,所述导管侧壁固定安装有电动阀门,所述导管下端固定安装有喷头,所述喷头下端固定安装有多个喷嘴。
作为上述技术方案的进一步描述:
所述受力板下端固定安装有两个一号弹簧,所述一号弹簧远离受力板的一端固定连接有底座,所述底座上表面固定安装有伸缩柱,所述伸缩柱远离底座的一端与受力板底部固定连接。
本发明具有如下有益效果:
1、与现有技术相比,该磁控溅射真空镀膜设备,通过设置喷洒装置可以在设备出现故障起火时,及时喷洒干粉降温灭火,控制火情蔓延,及时控制火灾,减少设备损害程度,保障了财产安全和生命安全。
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