[发明专利]一种实现免洗靶功能的封闭靶仓设备

说明书

本发明公开了一种实现免洗靶功能的封闭靶仓设备，包括舱体和溅射靶，溅射靶设于舱体内；舱体外还设有：门框、舱门和锁紧装置，舱体上设有开口，门框安装于开口上，舱门与门框相配合实现对舱体的关闭与打开；溅射靶朝向舱门的方向设置；锁紧装置作用于舱门，将舱门锁紧于门框上或将舱门从门框上解锁，舱门锁紧于门框上时，舱体形成一密闭容器。本发明通过将溅射靶置于舱体内，并对舱体设置舱门和锁紧装置，当达到溅射的真空要求时将舱门打开，进行溅射镀膜操作，操作完成后在真空环境下将舱门关闭并锁紧，使溅射靶真空密封于舱体内，大大减少了被氧化的情况，实现了溅射靶的免洗靶功能，且大大提高了溅射膜的纯度和反射率。

技术领域

本发明涉及磁控溅射镀膜工艺及磁控溅射镀膜设备制造技术领域，尤其涉及一种实现免洗靶功能的封闭靶仓设备。

背景技术

现有的单腔室溅射镀膜机，其溅射靶基本上都没有密封保护。当镀膜机开门之后，溅射靶便裸露在大气中，大气中的氧气、水蒸气及众多有机分子会吸附在溅射靶靶材的表面，将靶材氧化、污染。被氧化和污染的靶材会严重影响溅射膜层的品质，镀膜之前通常要先把它们溅射掉，此过程通常被称为洗靶。洗靶既浪费时间，又消耗靶材，甚至带来待镀工件被污染的风险。另外，溅射成膜质量也因靶材被氧化而受影响，具体表现在：溅射膜纯度低，反射率不够高；以及化合物反应不充分，化学计量比不够高，溅射膜的折射率不够高等。

因此，如何使溅射靶表面不被氧化以提高溅射膜的产品质量，是本领域技术人员亟待解决的技术问题。

发明内容

为解决以上技术问题，本发明提供一种实现免洗靶功能的封闭靶仓设备。该封闭靶仓设备将溅射靶进行密封保存，使其始终处于真空环境中，避免在镀膜机破真空后溅射靶被大气污染而产生氧化，大大提高了溅射膜的产品质量，同时省去了洗靶的工序，提高了镀膜机的工作效率。

本发明的技术方案如下：本发明提供一种实现免洗靶功能的封闭靶仓设备，包括舱体和溅射靶，所述溅射靶设于所述舱体的腔体内；所述舱体外还设有：门框、舱门和锁紧装置，所述舱体上设有开口，所述门框安装于所述开口上，所述舱门与所述门框相配合实现对所述舱体的关闭与打开；所述溅射靶朝向所述舱门的方向设置；所述锁紧装置作用于所述舱门，将所述舱门锁紧于所述门框上或将所述舱门从所述门框上解锁，所述舱门锁紧于所述门框上时，所述舱体形成一密闭容器。

进一步地，还包括一第一驱动装置，所述第一驱动装置设于所述舱体外，其动力输出端连接于所述锁紧装置。

进一步地，所述锁紧装置包括：一伸缩杆和一拉手，所述伸缩杆一端连接于所述第一驱动装置的动力输出端，另一端连接于所述拉手，所述拉手随所述伸缩杆前后移动，并随所述伸缩杆转动以抵触于所述舱门上实现锁紧操作，或与所述舱门相脱离实现解锁操作。

进一步地，所述锁紧装置和所述第一驱动装置的数量均为4，4个所述锁紧装置分别作用于所述舱门的左上侧、左下侧、右上侧和右下侧。

进一步地，所述舱门为一平移门，所述舱体还包括一第二驱动装置，所述第二驱动装置的动力输出端连接于所述舱门上，控制所述舱门移动。

进一步地，所述舱体还包括若干弹性拉杆，每一所述弹性拉杆一端连接于所述门框上，另一端连接于所述舱门上。

进一步地，所述门框的与所述舱门相对的一面上和/或所述舱门的与所述门框相对的一面上还设有密封槽，所述密封槽内设有密封胶圈。

进一步地，所述溅射靶为一平面靶或圆柱靶。

在另一实施例中，所述舱门为一转动门，所述舱门转动连接于所述门框上。

进一步地，还包括一第三驱动装置，所述第三驱动装置的动力输出端连接于所述舱门上。

采用上述方案，本发明的实现免洗靶功能的封闭靶仓设备具有以下有益效果：