[发明专利]一种提高相位调制量的方法及设备在审
| 申请号: | 202110263674.0 | 申请日: | 2021-03-11 |
| 公开(公告)号: | CN113064291A | 公开(公告)日: | 2021-07-02 |
| 发明(设计)人: | 张宁峰;宇磊磊;夏高飞;王华 | 申请(专利权)人: | 西安中科微星光电科技有限公司 |
| 主分类号: | G02F1/133 | 分类号: | G02F1/133 |
| 代理公司: | 深圳市科进知识产权代理事务所(普通合伙) 44316 | 代理人: | 魏毅宏 |
| 地址: | 710000 陕西省西安市高新区毕原*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 提高 相位 调制 方法 设备 | ||
1.一种提高相位调制量的方法,其特征在于,该方法包括:通过增加液晶盒的数量并在相邻的液晶盒之间配置偏振器,用于增加入射光穿过的液晶盒的厚度,使得在电压变化时相位调制器件的相位延迟增加。
2.根据权利要求1所述的提高相位调制量的方法,其特征在于,还包括:
相位调制量检测设备;
将激光调整为圆偏振光后经过半反半透镜的分光,得到参考光和进入液晶盒的入射光;
在所述液晶盒上加载灰度对比图并调整偏振器件的角度,使得所述入射光与参考光产生的干涉条纹的移动量最大,经计算可得单个所述液晶盒的最大相位调制量。
3.根据权利要求1所述的提高相位调制量的方法,其特征在于,还包括:
相位调制量检测设备;
在全部所述液晶盒上同时加载灰度对比图并调整偏振器件和所述偏振器的角度,使得直至所述入射光与参考光产生干涉条纹的移动量最大,即得多个液晶盒叠加可实现的最大相位调制量。
4.根据权利要求1所述的提高相位调制量的方法,其特征在于,所述电压为纯相位调制电压,其大小范围在启动电压和光学电压之间。
5.根据权利要求1所述的提高相位调制量的方法,其特征在于,通过向全部所述液晶盒同时加载电压,使得所述液晶盒内的液晶分子同时旋转,用于对全部所述液晶盒进行同步控制。
6.一种相位调制器件,适用于透射式空间光调制器,其特征在于,具有:
至少两个液晶盒,其用于增加入射光所穿过的所述液晶盒的厚度;
偏振器,其被配置于相邻的所述液晶盒之间,用于对所述入射光进行起偏。
7.根据权利要求6所述的相位调制器件,其特征在于,所述液晶盒在入射光的射入方向上完全重叠。
8.根据权利要求7所述的相位调制器件,其特征在于,所述液晶盒为TN型液晶盒。
9.根据权利要求7所述的相位调制器件,其特征在于,所述液晶盒为STN型液晶盒。
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