[发明专利]蒸镀掩模的制造方法在审

专利信息
申请号: 202110252771.X 申请日: 2021-03-08
公开(公告)号: CN113445002A 公开(公告)日: 2021-09-28
发明(设计)人: 山田哲行;松本优子 申请(专利权)人: 株式会社日本显示器
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C14/24;C25D1/10
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 杨宏军
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 蒸镀掩模 制造 方法
【说明书】:

本发明涉及蒸镀掩模的制造方法。课题为提供不易受到工艺温度或环境温度影响的蒸镀掩模的制造方法。蒸镀掩模的制造方法包括:在玻璃基板之上形成保护层,在所述保护层之上形成镀覆生长层,在所述镀覆生长层之上通过电镀形成掩模部,使用溶液将所述玻璃基板溶解并除去,将所述保护层及所述镀覆生长层除去。所述保护层可以由对所述溶液具有耐受性的材料构成。所述保护层可以由树脂材料构成。

技术领域

本发明的一实施方式涉及蒸镀掩模的制造方法。

背景技术

近年来,已知作为发光元件使用有机EL元件的有机EL显示装置。有机EL元件在阳极电极与阴极电极之间具有含有有机EL材料的层(以下称为“有机EL层”)。有机EL层包含发光层、电子注入层、空穴注入层等功能层。有机EL元件能够通过选择构成功能层的有机材料而以各种波长的颜色发光。

在以低分子化合物为材料的有机EL元件的薄膜的形成中使用真空蒸镀法。在真空蒸镀法中,在真空下使用加热器对蒸镀材料进行加热以使其升华,并使蒸镀材料堆积(蒸镀)在基板的表面而形成薄膜。此时,通过使用具备大量微细开口图案的掩模(蒸镀掩模),从而能够在蒸镀的同时形成高精细的薄膜图案。

蒸镀掩模分为使用蚀刻形成开口图案的精细金属掩模(FMM)和使用电铸(电气铸造)技术形成开口图案的精细电铸掩模(EFM)。例如,专利文献1中公开了通过电铸技术形成具有高精细开口图案的掩模部,并将所形成的掩模部通过电铸技术固定于框体部的方法。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开2017-210633号公报

发明内容

发明要解决的课题

专利文献1所记载的蒸镀掩模的制造方法中,经多个电铸工序在由不锈钢或黄铜构成的支承基板之上形成掩模部。在多个电铸工序中,由金属材料构成的支承基板被用作电流的供给路径。但是,不锈钢及黄铜由于线膨胀系数大,因此存在支承基板受工艺温度或环境温度影响而伸缩的情况。这样的支承基板的伸缩存在导致蒸镀掩模的开口的位置精度偏差的问题。

另外,由不锈钢或黄铜构成的支承基板比通过电铸技术形成的掩模部的刚性高,因此,在将支承基板剥离时,还存在对掩模部施加大应力的问题。施加于掩模部的应力可能导致掩模部破损及从支承掩模部的支承框的脱离等问题。

本发明一实施方式的目的之一在于提供不易受到工艺温度或环境温度的影响的蒸镀掩模的制造方法。

本发明一实施方式的目的之一在于提供能够将支承基板除去而不对掩模部施加应力的蒸镀掩模的制造方法。

用于解决课题的手段

本发明一实施方式中的蒸镀掩模的制造方法包括:在玻璃基板之上形成保护层,在上述保护层之上形成镀覆生长层,在上述镀覆生长层之上通过电镀而形成掩模部,使用溶液将上述玻璃基板溶解并除去,将上述保护层及上述镀覆生长层除去。

本发明一实施方式中的蒸镀掩模的制造方法包括:在玻璃基板之上形成镀覆生长层,在上述镀覆生长层之上通过电镀而形成掩模部,使用第1溶液将上述玻璃基板溶解并除去,将上述镀覆生长层除去。

附图说明

图1是示出本发明第1实施方式中的蒸镀掩模的构成的俯视图。

图2是示出本发明第1实施方式中的蒸镀掩模的构成的剖视图。

图3是示出本发明第1实施方式中的蒸镀掩模的制造方法的剖视图。

图4是示出本发明第1实施方式中的蒸镀掩模的制造方法的剖视图。

图5是示出本发明第1实施方式中的蒸镀掩模的制造方法的剖视图。

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