[发明专利]膜厚测定系统、膜厚测定方法以及存储介质在审
申请号: | 202110251055.X | 申请日: | 2021-03-08 |
公开(公告)号: | CN113405477A | 公开(公告)日: | 2021-09-17 |
发明(设计)人: | 梅原康敏 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | G01B11/06 | 分类号: | G01B11/06 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 吕琳;朴秀玉 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 测定 系统 方法 以及 存储 介质 | ||
一种膜厚测定系统,其取得与形成有膜厚不同的第一膜的N个第一基板的表面的第一位置相关的分光数据,对N个第一基板的每一个取得第一位置的第一膜的膜厚,用摄像部对形成有膜厚不同的第二膜的N个第二基板的表面进行摄像而取得第一图像数据,对N个第二基板的每一个取得第一区域内的多个第一子区域中的第一颜色信息,取得第一区域内的第二膜的膜厚与该第一区域内的多个第一子区域的每一个的第一颜色信息的相关关系,使用摄像部对形成有第三膜的第三基板的表面进行摄像而取得第二图像数据,对多个第二子区域的每一个第二子区域取得第二颜色信息,由多个第二子区域的每一个的第二颜色信息和相关关系推定与第一区域对应的第二区域内的第三膜的膜厚。
技术领域
本发明涉及膜厚测定系统、膜厚测定方法以及存储介质。
背景技术
在专利文献1中,公开了由对基板表面进行摄像的图像来计算形成于基板之上的膜的膜厚的构成。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本国特开2015-215193号公报
发明内容
本发明要解决的问题
本发明提供一种能够高精度地对形成有图案的基板之上的膜的膜厚进行测定的膜厚测定系统、膜厚测定方法以及存储介质。
用于解决问题的手段
本发明的一个方式的膜厚测定系统具有:保持部,其构成为用于保持基板;摄像部,其构成为用于对被上述保持部保持的上述基板的表面进行摄像并取得图像数据;以及控制部,其构成为用于控制上述摄像部,上述控制部具有:分光数据取得部,其构成为对来自形成有膜厚不同的第一膜的N个(N是2以上的整数)第一基板的表面的第一位置的光进行分光,从而取得N个分光数据;第一膜厚取得部,其构成为针对上述N个第一基板的每一个第一基板,自上述分光数据取得上述第一位置的上述第一膜的膜厚;第一图像数据取得部,其构成为使用上述摄像部,对被上述保持部保持且与上述第一膜对应地形成有膜厚不同的第二膜的N个第二基板的表面进行摄像,从而取得N个第一图像数据;第一颜色信息取得部,其构成为针对上述N个第二基板的每一个第二基板,取得包括与上述第一位置对应的第二位置的第一区域内的多个第一子区域中的上述第一图像数据中包含的第一颜色信息;相关关系取得部,其构成为作为上述第一区域内的上述第二膜的膜厚使用上述第一位置的上述第一膜的膜厚,并且取得上述第一区域内的上述第二膜的膜厚与该第一区域内的上述多个第一子区域的每一个第一子区域的上述第一颜色信息的相关关系;第二图像数据取得部,其构成为使用上述摄像部,对被上述保持部保持且形成有第三膜的第三基板的表面进行摄像,从而取得第二图像数据;第二颜色信息取得部,其构成为针对与上述多个第一子区域对应的多个第二子区域的每一个第二子区域,取得上述第二图像数据中包含的第二颜色信息;以及推定部,其构成为由上述多个第二子区域的每一个第二子区域的上述第二颜色信息以及上述相关关系,对与上述第一区域对应的第二区域内的上述第三膜的膜厚进行推定。
发明的效果
根据本发明,能够高精度地对形成有图案的基板之上的膜的膜厚进行测定。
附图说明
图1是示出基板处理系统的概略构成的一个例子的示意图。
图2是示出膜厚测定单元的一个例子的示意图。
图3是示出控制装置的功能构成的一个例子的框图。
图4是示出控制装置的硬件构成的一个例子的框图。
图5是示出基于控制装置的控制(参照用数据的取得)的一个例子的流程图。
图6是示出基于控制装置的控制(由分光光谱数据的膜厚的推定)的一个例子的流程图。
图7是示出基于控制装置的控制(校正用数据的取得)的一个例子的流程图。
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