[发明专利]一种显示面板及其制备方法

说明书

本申请公开了一种显示面板及其制备方法，包括：第一柔性层；第一阻隔层，设于所述第一柔性层上；以及第二柔性层，设于所述第一阻隔层上；其中，所述第一阻隔层所用的材料包括氧化硅和氮化硅，所述氧化硅和所述氮化硅的质量比为3x：7y，且x＝1‑4，y＝1‑4。本申请在两层柔性层之间设置阻隔层，可以提高两层柔性层之间的粘附力，实现所述柔性基板阻水阻氧能力、粘附力、弯折性能、高温高湿性能和光学透过率。

技术领域

本申请涉及显示技术领域，具体涉及一种显示面板及其制备方法。

背景技术

随着现代显示技术的快速发展，显示技术领域正朝着更轻、更薄、更柔、更透明的方向发展。传统的玻璃基板由于自身硬和脆等特性，难以满足未来柔性显示技术的要求；而高分子薄膜基板具有质轻、柔性、综合性能优异等特点，可以很好地满足显示技术对柔性的要求。因此，柔性高分子基板材料是未来柔性显示技术的首选材料。

目前，聚酰亚胺(Polyimide,PI)为柔性基板最具发展前景的高分子材料。聚酰亚胺具有优异的耐热性、耐辐射性能、耐化学性、电绝缘性、机械性能等，但其自身的阻水阻氧能力较弱。通常柔性聚酰亚胺基板的阻水阻氧能力是采用多层聚酰亚胺/无机二氧化硅(Silicon Oxide,SiO2)交替堆叠的结构，但该结构粘附力明显不足，制备薄膜晶体管(ThinFilm Transistor,TFT)后，容易发生弯折时膜层脱落或高温高湿时膜层分离等问题。

发明内容

本发明的目的在于，本发明提供一种显示面板及其制备方法，以解决现有柔性基板阻水阻氧能力较弱，在弯折时膜层脱落或高温高湿时膜层分离的技术问题。

为实现上述目的，本发明提供一种显示面板，包括：第一柔性层；第一阻隔层，设于所述第一柔性层上；以及第二柔性层，设于所述第一阻隔层上；其中，所述第一阻隔层所用的材料包括氧化硅和氮化硅，所述氧化硅和所述氮化硅的质量比为3x：7y，且x＝1-4，y＝1-4。

进一步地，当x＝3，y＝1时，所述氧化硅和所述氮化硅的质量比为9：7。

进一步地，所述氧化硅为二氧化硅；所述氮化硅为四氮化三硅。

进一步地，所述的显示面板还包括：第二阻隔层，设于所述第二柔性层上。

进一步地，所述第二阻隔层所用的材料包括氧化硅和氮化硅，所述氧化硅和所述氮化硅的质量比为3x：7y，且x＝1-4，y＝1-4。

进一步地，所述第一柔性层的厚度为4000-12000nm；和/或所述第一阻隔层的厚度为100-600nm；和/或所述第二柔性层的厚度为4000-12000nm；和/或所述第二阻隔层的厚度为100-600nm。

进一步地，所述第一柔性层与所述第一阻隔层、所述第二柔性层、所述第二阻隔层的厚度之和为8200-25200nm。

为实现上述目的，本发明还提供一种显示面板的制备方法，包括如下步骤：形成一第一柔性层于一玻璃基板上；形成一第一阻隔层于所述第一柔性层上，其中所述第一阻隔层所用的材料包括氧化硅和氮化硅，所述氧化硅和所述氮化硅的质量比为3x：7y，且x＝1-4，y＝1-4。

进一步地，在所述形成一第二柔性层于所述第一阻隔层上的步骤之后还包括：形成一第二阻隔层于所述第二柔性层上。

进一步地，在所述形成一第二柔性层于所述第一阻隔层上的步骤之后还包括：采用机械剥离技术和/或激光剥离技术对所述玻璃基板和所述第一柔性层进行剥离处理。

本发明的技术效果在于，提供一种显示面板及其制备方法，所述显示面板包括两层柔性层和两层阻隔层，且所述柔性层与所述阻隔层间隔设置，既可以提高两层柔性层之间的粘附力，还可以提高所述柔性层与其他膜层的粘附力，实现所述柔性基板阻水阻氧能力、粘附力、弯折性能、高温高湿性能和光学透过率。

附图说明