[发明专利]一种显示面板及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202110249634.0 申请日: 2021-03-08
公开(公告)号: CN113053915A 公开(公告)日: 2021-06-29
发明(设计)人: 柯霖波 申请(专利权)人: 武汉华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L27/32;H01L21/84
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 赵伟
地址: 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 显示 面板 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种显示面板,其特征在于,包括:

第一柔性层;

第一阻隔层,设于所述第一柔性层上;以及

第二柔性层,设于所述第一阻隔层上;

其中,所述第一阻隔层所用的材料包括氧化硅和氮化硅,所述氧化硅和所述氮化硅的质量比为3x:7y,且x=1-4,y=1-4。

2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,

当x=3,y=1时,所述氧化硅和所述氮化硅的质量比为9:7。

3.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,

所述氧化硅为二氧化硅;

所述氮化硅为四氮化三硅。

4.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,还包括:

第二阻隔层,设于所述第二柔性层上。

5.根据权利要求4所述的显示面板,其特征在于,

所述第二阻隔层所用的材料包括氧化硅和氮化硅,所述氧化硅和所述氮化硅的质量比为3x:7y,且x=1-4,y=1-4。

6.根据权利要求4所述的显示面板,其特征在于,

所述第一柔性层的厚度为4000-12000nm;和/或

所述第一阻隔层的厚度为100-600nm;和/或

所述第二柔性层的厚度为4000-12000nm;和/或

所述第二阻隔层的厚度为100-600nm。

7.根据权利要求4所述的显示面板,其特征在于,

所述第一柔性层与所述第一阻隔层、所述第二柔性层、所述第二阻隔层的厚度之和为8200-25200nm。

8.一种显示面板的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:

形成一第一柔性层于一玻璃基板上;

形成一第一阻隔层于所述第一柔性层上,其中所述第一阻隔层所用的材料包括氧化硅和氮化硅,所述氧化硅和所述氮化硅的质量比为3x:7y,且x=1-4,y=1-4;以及

形成一第二柔性层于所述第一阻隔层上。

9.根据权利要求8所述的显示面板的制备方法,其特征在于,

在所述形成一第二柔性层于所述第一阻隔层上的步骤之后还包括:

形成一第二阻隔层于所述第二柔性层上。

10.根据权利要求8所述的显示面板的制备方法,其特征在于,

在所述形成一第二柔性层于所述第一阻隔层上的步骤之后还包括:

采用机械剥离技术和/或激光剥离技术对所述玻璃基板和所述第一柔性层进行剥离处理。

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