[发明专利]一种晶圆切割胶带基材及其制备方法在审
申请号: | 202110247958.0 | 申请日: | 2021-03-06 |
公开(公告)号: | CN113122154A | 公开(公告)日: | 2021-07-16 |
发明(设计)人: | 李丹丹 | 申请(专利权)人: | 通瓦化学(上海)有限公司 |
主分类号: | C09J7/24 | 分类号: | C09J7/24;C08L23/08;C08L23/06;C08J7/12 |
代理公司: | 苏州启华专利代理事务所(普通合伙) 32357 | 代理人: | 徐伟华 |
地址: | 201600 上海市松江区泖*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 切割 胶带 基材 及其 制备 方法 | ||
1.一种晶圆切割胶带基材,其特征在于,所述基材按照质量份数计,包括:茂金属线性低密度聚乙烯10-30份、醋酸乙烯含量在5wt%-20wt%的乙烯-醋酸乙烯共聚物或聚乙烯弹性体60-80份、助剂5-10份、抗氧化剂1-3份。
2.根据权利要求1所述的晶圆切割胶带基材,其特征在于,所述助剂采用了三羟甲基丙烷三丙烯酸酯。
3.根据权利要求1所述的晶圆切割胶带基材,其特征在于,所述乙烯-醋酸乙烯共聚物或聚乙烯弹性体中醋酸乙烯的含量控制在10wt%-18wt%。
4.一种如权利要求1至3中任一权利要求所述的晶圆切割胶带基材的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
1)按照质量份数称取所需原料,并将称取好的原料依次加入挤出机料斗内混合呈熔体,而后采用流延法将熔体由挤出模头流延挤出至冷却辊上冷却成型,之后依次经钢辊压花、电晕装置电晕后收卷呈卷状基材原膜;
2)将收卷后的卷状基材原膜进行辐照处理,高能粒子辐照剂量在30-80 kGy,辐照结束后即可得到我们所需的基材。
5.根据权利要求4所述的晶圆切割胶带基材的制备方法,其特征在于,步骤2)中的高能粒子辐照剂量控制在40-50 kGy。
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