[发明专利]一种晶圆切割胶带基材及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202110247958.0 申请日: 2021-03-06
公开(公告)号: CN113122154A 公开(公告)日: 2021-07-16
发明(设计)人: 李丹丹 申请(专利权)人: 通瓦化学(上海)有限公司
主分类号: C09J7/24 分类号: C09J7/24;C08L23/08;C08L23/06;C08J7/12
代理公司: 苏州启华专利代理事务所(普通合伙) 32357 代理人: 徐伟华
地址: 201600 上海市松江区泖*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 切割 胶带 基材 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种晶圆切割胶带基材,其特征在于,所述基材按照质量份数计,包括:茂金属线性低密度聚乙烯10-30份、醋酸乙烯含量在5wt%-20wt%的乙烯-醋酸乙烯共聚物或聚乙烯弹性体60-80份、助剂5-10份、抗氧化剂1-3份。

2.根据权利要求1所述的晶圆切割胶带基材,其特征在于,所述助剂采用了三羟甲基丙烷三丙烯酸酯。

3.根据权利要求1所述的晶圆切割胶带基材,其特征在于,所述乙烯-醋酸乙烯共聚物或聚乙烯弹性体中醋酸乙烯的含量控制在10wt%-18wt%。

4.一种如权利要求1至3中任一权利要求所述的晶圆切割胶带基材的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

1)按照质量份数称取所需原料,并将称取好的原料依次加入挤出机料斗内混合呈熔体,而后采用流延法将熔体由挤出模头流延挤出至冷却辊上冷却成型,之后依次经钢辊压花、电晕装置电晕后收卷呈卷状基材原膜;

2)将收卷后的卷状基材原膜进行辐照处理,高能粒子辐照剂量在30-80 kGy,辐照结束后即可得到我们所需的基材。

5.根据权利要求4所述的晶圆切割胶带基材的制备方法,其特征在于,步骤2)中的高能粒子辐照剂量控制在40-50 kGy。

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