[发明专利]一种高纯结晶二氧化硅颗粒的制备方法有效
| 申请号： | 202110244316.5 | 申请日： | 2021-03-05 |
| 公开（公告）号： | CN113307275B | 公开（公告）日： | 2022-08-05 |
| 发明（设计）人： | 袁良杰;黄荷;王师宇;严诗婷 | 申请（专利权）人： | 武汉大学 |
| 主分类号： | C01B33/18 | 分类号： | C01B33/18 |
| 代理公司： | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 | 代理人： | 李欣荣 |
| 地址： | 430072 湖*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 高纯 结晶 二氧化硅 颗粒 制备 方法 | ||
1.一种高纯结晶二氧化硅颗粒的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
1）以粒径50μm以上的非晶态二氧化硅粉末为原料，加入矿化剂溶液，混合均匀得反应溶液；
2）在密封条件下，将所得反应溶液加热进行水热反应；
3）自然冷却至室温，进行水洗、过滤、干燥，即得所述高纯结晶二氧化硅颗粒；
所述矿化剂溶液为硼砂-Na2CO3缓冲溶液，其浓度为0.03~0.5mol/L，pH值为9.8-11.5；所述非晶态二氧化硅与矿化剂溶液的固液比为1:(5~18)；
所述水热反应温度为240-260℃时得方石英晶型二氧化硅晶体；所述水热反应温度为250-260℃时，得石英晶型结晶二氧化硅。
2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述非晶态二氧化硅为高纯非晶态球形二氧化硅，其粒径为50μm以上，比表面积为150～600m2/g，杂质元素总含量小于20ppm或30ppb。
3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述高纯非晶态球形二氧化硅以高纯水玻璃、高纯四氯化硅或高纯有机硅为原料进行水解制得。
4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述高纯结晶二氧化硅颗粒的粒径为45～400μm，杂质元素总含量小于20ppm或30ppb。
5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述非晶态二氧化硅与矿化剂溶液的固液比为1:(11~14)，硼砂-Na2CO3缓冲溶液的pH值为10~10.5时，得方石英晶型二氧化硅晶体；所述非晶态二氧化硅与矿化剂的固液比为1:(8~11)时，硼砂-Na2CO3缓冲溶液的pH值为11~11.5时，得石英晶型结晶二氧化硅。
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