[发明专利]一种用于制备高密度ITO靶材的离心喷雾造粒工艺

说明书

本发明公开了一种用于制备高密度ITO靶材的离心喷雾造粒工艺，属于ITO靶材加工技术领域，该离心喷雾造粒工艺包括以下步骤：S1、称取In₂O₃纳米粉末和SnO₂纳米粉末，加入去离子水和分散剂，搅拌均匀，得到浆料；S2、将浆料通过砂磨机球磨，然后加入粘结剂和消泡剂，混合均匀后，得到待造粒浆液；S3、通过风机抽取外界空气，以使空气依次经过滤器、加热器和集气管后通过造粒用的罐体内的布气管排入罐体，直至罐体内布满温度为130‑240℃的热气；将待造粒浆液通过进料管输送，以使待造粒浆液通过雾化器雾化后喷入罐体，从而得到所需造粒粉。本发明解决了ITO靶材喷雾干燥过程中，雾状原料干燥速率较慢的问题。

技术领域

本发明涉及ITO靶材加工技术领域，更具体地说，它涉及一种用于制备高密度ITO靶材的离心喷雾造粒工艺。

背景技术

ITO靶材是制备ITO导电玻璃的重要原料。ITO靶材除应用在液晶显示器(LCD)面板外，还可应用在许多电子产品上，如触摸屏、有机发光平面显示器、等离子体显示器、汽车防热除雾玻璃、太阳能电池、光电转换器、透明加热器防静电膜、红外线反射装置等。ITO靶材经溅射后可在玻璃上形成透明ITO导电薄膜，其性能是决定导电玻璃产品质量、生产效率、成品率的关键因素。导电玻璃生产商要求生产过程中能够稳定连续地生产出电阻和透过率均匀、不波动的导电玻璃，故ITO靶材应在整个镀膜过程中保持性能不变。

经成形工艺处理后的ITO素坯只是半成品，素坯需要进行进一步的烧结处理，以得到ITO靶材。ITO素坯的烧结方法主要包括热等静压法、热压法和常压烧结法。常压烧结法又称气氛烧结法，是指以预压方式制造高密度的靶坯，在一定的气氛和温度下烧结的方法。常压烧结法由于对气氛和温度分别进行了严格的控制，避免了晶粒的长大，提高了晶粒分布的均匀性。该法具备生产成本低、靶材密度高、可制备大尺寸靶材等优点。

高密度ITO靶材加工过程中需要通过离心喷雾造粒机进行喷雾造粒，以形成ITO颗粒。然而传统离心喷雾造粒机造粒过程中，由于原料从雾化喷嘴喷出，而用来干燥的气体只从罐体一侧进入，因此除这一侧外，其余罐体位置的雾状原料与气体接触面积小，干燥速率较慢，从而降低了ITO靶材的喷雾干燥质量。

有鉴于此，本发明提高一种新型的用于制备高密度ITO靶材的离心喷雾造粒工艺。

发明内容

针对现有技术存在的不足，本发明的目的在于提供一种用于制备高密度ITO靶材的离心喷雾造粒工艺，其解决了ITO靶材喷雾干燥过程中，雾状原料干燥速率较慢的问题。

为实现上述目的，本发明提供了如下技术方案：

一种用于制备高密度ITO靶材的离心喷雾造粒工艺，包括以下步骤：

S1、按照In₂O₃/SnO₂质量比为9：1的比例，称取纯度大于99.99％的In₂O₃纳米粉末和SnO₂纳米粉末，加入去离子水和分散剂，搅拌均匀，得到浆料；

S2、将步骤S1中的所述浆料通过砂磨机球磨10-30min，然后加入粘结剂和消泡剂，混合均匀后，得到待造粒浆液；

S3、通过风机抽取外界空气，以使空气依次经过滤器、加热器和集气管后通过造粒用的罐体内的布气管排入罐体，直至所述罐体内布满温度为130-240℃的热气；将步骤S2中的所述待造粒浆液通过进料管输送，以使所述待造粒浆液通过雾化器雾化后喷入所述罐体，雾化后的所述待造粒浆液在所述罐体内与热气接触后，形成造粒粉，并从所述罐体上的出料口离心排出，从而得到所需造粒粉。

进一步优选为：所述待造粒浆液雾化后喷入所述罐体过程中，开启所述罐体底部的电机，以使电机带动所述罐体内底部的托盘转动，所述托盘转动过程中，所述布气管在所述罐体内上下移动。