[发明专利]双面等离子体增强化学气相沉积结构与沉积装置

权利要求书

1.一种双面等离子体增强化学气相沉积结构，其特征在于，包括箱体以及设于所述箱体之腔体内的气盒机构、电极机构和载具，所述气盒机构用于导入气体，所述电极机构与所述气盒机构连接并用于电离所述气盒机构内的气体，所述载具位于所述箱体之远离所述气盒机构的进气口的一侧，所述载具内开设有开口朝上且沿所述箱体的前后方向呈前后贯通设置的槽体结构，以形成沉积室，所述槽体结构具有用于承载工件的第一承载面和第二承载面，所述载具可摆动地设于所述箱体并带动工件于所述第一承载面与所述第二承载面之间切换，所述箱体开设有与所述沉积室的输出端连接的抽气口，借由所述抽气口的抽气使得所述气盒机构内电离的气体沉积于所述载具处的工件；所述载具的第一承载面与所述第二承载面共同形成“V”型槽结构；所述第一承载面与所述第二承载面设置有多个，所述第一承载面与所述第二承载面呈交替的设置，以承载多个工件。

2.如权利要求1所述的双面等离子体增强化学气相沉积结构，其特征在于，所述气盒机构包括呈中空结构的气盒体，所述中空结构形成气腔，所述进气口开设于所述气盒体的前侧中心处，所述进气口与所述气腔连通且穿置于所述箱体之前侧，所述气盒体的一侧呈平行的等间距设置有隔板，相邻两所述隔板之间的所述气盒体的一侧贯穿开设有与所述气腔连通的呈条状的出气口，所述出气口之间呈平行的等间距设置，相邻两所述隔板之间形成电离腔，所述电极机构包括承载体，所述承载体上呈平行且等间距的延伸出与所述电离腔对应的电极条，所述电极条对应悬置于所述电离腔中。

3.如权利要求1所述的双面等离子体增强化学气相沉积结构，其特征在于，还包括摆动驱动机构，所述摆动驱动机构安装于所述载具的底部，所述载具在摆动驱动机构的驱动下摆动。

4.如权利要求3所述的双面等离子体增强化学气相沉积结构，其特征在于，所述摆动驱动机构包括枢转中心轴、左升降装置和右升降装置，所述枢转中心轴位于所述载具的中部，所述左升降装置位于所述载具的左侧，所述右升降装置位于所述载具的右侧。

5.如权利要求1所述的双面等离子体增强化学气相沉积结构，其特征在于，所述载具处设置有用于中和静电的电场。

6.如权利要求5所述的双面等离子体增强化学气相沉积结构，其特征在于，所述载具两侧加设有电极相反的电场。

7.如权利要求2所述的双面等离子体增强化学气相沉积结构，其特征在于，悬置于所述电离腔中的所述电极条位于所述出气口的正下方。

8.一种沉积装置，其特征在于，包括气体收集室和至少两个如权利要求1至7中任一项所述的双面等离子体增强化学气相沉积结构，所述双面等离子体增强化学气相沉积结构呈对称设置，所有所述双面等离子体增强化学气相沉积结构的抽气口均与所述气体收集室连通。